[发明专利]线束的布线结构和屏蔽盖有效
申请号: | 201180046085.1 | 申请日: | 2011-09-16 |
公开(公告)号: | CN103155320A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 足立英臣;久保嶋秀彦 | 申请(专利权)人: | 矢崎总业株式会社 |
主分类号: | H02G3/04 | 分类号: | H02G3/04;H02G3/08;H05K9/00 |
代理公司: | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人: | 陈波;文琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 布线 结构 屏蔽 | ||
1.一种线束的布线结构,其中,
所述线束的线束体的导电路径和覆盖所述线束的导电屏蔽盖直接地或者间接地部分进入接触状态和保持状态中的至少一个状态。
2.根据权利要求1所述的布线结构,其中,
弯曲部形成于所述导电路径中,该弯曲部用作直接接触所述屏蔽盖的部分,并且
凸部形成于所述屏蔽盖中,该凸部的内表面用作直接接触所述弯曲部的部分。
3.根据权利要求1所述的布线结构,其中,
所述屏蔽盖设置有抗振装置。
4.根据权利要求1所述的布线结构,其中,
所述抗振装置包括具有C形截面的槽状的保持部,并且
所述导电路径的被保持部嵌入所述抗振装置的所述保持部,并且被该保持部保持,以用作被所述屏蔽盖间接地保持的部分。
5.根据权利要求1所述的布线结构,其中,
所述屏蔽盖设置有热辐射装置。
6.一种具有导电性并且覆盖线束的屏蔽盖,该屏蔽盖包括这样一个部分:
该部分与所述线束的线束体的导电路径的一部分直接地或者间接地进入接触状态和保持状态中的至少一个状态。
7.根据权利要求6所述的屏蔽盖,其中,
凸部形成于所述屏蔽盖中,该凸部的内表面用作直接接触弯曲部的部分,该弯曲部形成在所述线束的所述线束体的所述导电路径中。
8.根据权利要求6所述的屏蔽盖,包括抗振装置。
9.根据权利要求8所述的屏蔽盖,其中,
所述抗振装置包括具有C形截面的槽状的保持部,以用作间接保持所述导电路径的被保持部的部分。
10.根据权利要求6所述的屏蔽盖,包括热辐射装置。
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