[发明专利]使用在包括嵌入式管芯的内建非凹凸层衬底上的硅通孔的管芯堆叠,以及其形成工艺有效

专利信息
申请号: 201180045863.5 申请日: 2011-09-24
公开(公告)号: CN103119712A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: J·古扎克;R·K·纳拉;J.索托冈萨雷斯;D·德莱尼;S·波素库奇;M·玛莫迪亚;E·扎波科;J·斯旺 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L21/60
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 姬利永
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 使用 包括 嵌入式 管芯 内建非 凹凸 衬底 硅通孔 堆叠 及其 形成 工艺
【权利要求书】:

1.一种装置,包括:

包括设置在其中的硅通孔的管芯(TSV管芯);

其中所述TSV管芯嵌入到无核衬底中,其中所述无核衬底包括着陆侧和管芯侧;

其中所述TSV管芯包括有源表面和背侧表面;以及其中相对于所述着陆侧,所述有源表面更靠近所述管芯侧。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述着陆侧被安装到基础衬底。

3.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯完全嵌入所述无核衬底中。

4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:

后续管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述TSV管芯。

5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯是第一TSV管芯并完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:

第二TSV管芯,设置在所述管芯侧之上并与所述TSV第一管芯接触;第三TSV管芯,设置在所述第二TSV管芯之上并与所述第二TSV管芯接触;

第四TSV管芯,设置在所述第三TSV管芯之上并与所述第三TSV管芯接触;以及后续管芯,设置在所述第四TSV管芯之上并与所述第四TSV管芯接触。

6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯是第一TSV管芯并完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:

第二TSV管芯,设置在所述管芯侧之上并与所述第一TSV管芯接触;第三TSV管芯,设置在所述第二TSV管芯之上并与所述第二TSV管芯接触;

第四TSV管芯,设置在所述第三TSV管芯之上并与所述第三TSV管芯接触;

第五TSV管芯,设置在所述第四TSV管芯之上并与所述第四TSV管芯接触;

第六TSV管芯,设置在所述第五TSV管芯之上并与所述第五TSV管芯接触;以及后续管芯,设置在所述第六TSV管芯之上并与所述第六TSV管芯接触。

7.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯是完全嵌入所述无核衬底中的第一TSV管芯,所述装置还包括:

横向堆栈TSV管芯,完全嵌入所述无核衬底中;以及后续管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述第一TSV管芯。

8.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯是完全嵌入所述无核衬底中的第一TSV管芯,所述装置还包括:

第一横向堆栈TSV管芯,完全嵌入所述无核衬底中;后续横向堆栈管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述第一横向堆栈TSV管芯;以及

后续管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述第一TSV管芯。

9.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯是完全嵌入所述无核衬底中的第一TSV管芯,所述装置还包括:

第二TSV管芯,与所述第一TSV管芯接触;

后续TSV管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述第二TSV管芯;

第一横向堆栈TSV管芯,完全嵌入所述无核衬底中;第二横向堆栈TSV管芯,与所述第一横向堆栈TSV管芯接触;第三横向堆栈TSV管芯,与所述第二横向堆栈TSV管芯接触;以及后续横向堆栈管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述第三横向堆栈TSV管芯。

10.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:

设置在所述管芯侧的至少一个层叠封装(POP)结合盘。

11.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:

设置在所述管芯侧的至少一个POP结合盘;以及

设置在所述管芯侧并与所述POP结合盘接触的设备模块。

12.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:

设置在所述管芯侧的至少一个层叠封装(POP)结合盘;以及后续管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述TSV管芯。

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