[发明专利]使用在包括嵌入式管芯的内建非凹凸层衬底上的硅通孔的管芯堆叠,以及其形成工艺有效
| 申请号: | 201180045863.5 | 申请日: | 2011-09-24 |
| 公开(公告)号: | CN103119712A | 公开(公告)日: | 2013-05-22 |
| 发明(设计)人: | J·古扎克;R·K·纳拉;J.索托冈萨雷斯;D·德莱尼;S·波素库奇;M·玛莫迪亚;E·扎波科;J·斯旺 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
| 主分类号: | H01L23/48 | 分类号: | H01L23/48;H01L21/60 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 姬利永 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 使用 包括 嵌入式 管芯 内建非 凹凸 衬底 硅通孔 堆叠 及其 形成 工艺 | ||
1.一种装置,包括:
包括设置在其中的硅通孔的管芯(TSV管芯);
其中所述TSV管芯嵌入到无核衬底中,其中所述无核衬底包括着陆侧和管芯侧;
其中所述TSV管芯包括有源表面和背侧表面;以及其中相对于所述着陆侧,所述有源表面更靠近所述管芯侧。
2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述着陆侧被安装到基础衬底。
3.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯完全嵌入所述无核衬底中。
4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:
后续管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述TSV管芯。
5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯是第一TSV管芯并完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:
第二TSV管芯,设置在所述管芯侧之上并与所述TSV第一管芯接触;第三TSV管芯,设置在所述第二TSV管芯之上并与所述第二TSV管芯接触;
第四TSV管芯,设置在所述第三TSV管芯之上并与所述第三TSV管芯接触;以及后续管芯,设置在所述第四TSV管芯之上并与所述第四TSV管芯接触。
6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯是第一TSV管芯并完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:
第二TSV管芯,设置在所述管芯侧之上并与所述第一TSV管芯接触;第三TSV管芯,设置在所述第二TSV管芯之上并与所述第二TSV管芯接触;
第四TSV管芯,设置在所述第三TSV管芯之上并与所述第三TSV管芯接触;
第五TSV管芯,设置在所述第四TSV管芯之上并与所述第四TSV管芯接触;
第六TSV管芯,设置在所述第五TSV管芯之上并与所述第五TSV管芯接触;以及后续管芯,设置在所述第六TSV管芯之上并与所述第六TSV管芯接触。
7.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯是完全嵌入所述无核衬底中的第一TSV管芯,所述装置还包括:
横向堆栈TSV管芯,完全嵌入所述无核衬底中;以及后续管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述第一TSV管芯。
8.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯是完全嵌入所述无核衬底中的第一TSV管芯,所述装置还包括:
第一横向堆栈TSV管芯,完全嵌入所述无核衬底中;后续横向堆栈管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述第一横向堆栈TSV管芯;以及
后续管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述第一TSV管芯。
9.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯是完全嵌入所述无核衬底中的第一TSV管芯,所述装置还包括:
第二TSV管芯,与所述第一TSV管芯接触;
后续TSV管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述第二TSV管芯;
第一横向堆栈TSV管芯,完全嵌入所述无核衬底中;第二横向堆栈TSV管芯,与所述第一横向堆栈TSV管芯接触;第三横向堆栈TSV管芯,与所述第二横向堆栈TSV管芯接触;以及后续横向堆栈管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述第三横向堆栈TSV管芯。
10.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:
设置在所述管芯侧的至少一个层叠封装(POP)结合盘。
11.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:
设置在所述管芯侧的至少一个POP结合盘;以及
设置在所述管芯侧并与所述POP结合盘接触的设备模块。
12.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述TSV管芯完全嵌入所述无核衬底中,所述装置还包括:
设置在所述管芯侧的至少一个层叠封装(POP)结合盘;以及后续管芯,设置在所述管芯侧上方并通过至少一个TSV耦合到所述TSV管芯。
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