[发明专利]制造带有透明的由合成石英制成的内层的石英玻璃坩埚的方法

权利要求书

1.用于制造带有由合成制备的石英玻璃制成的透明内层的石英玻璃坩埚的方法，包括以下方法步骤：

(a) 通过至少固定一个由SiO₂颗粒形成的颗粒层（4）的表面来生成一个具有一个内侧（9）的透气性坩埚基底（20；40），

(b) 通过气相沉积在该坩埚基底（20；40）的内侧（9）的至少一个部分表面上沉积一个多孔的SiO₂灰料层（21；41），并且

(c) 借助电弧（6）并在经真空熔融模具的壁进行作用的真空下，对该多孔的SiO₂灰料层（21；41）和坩埚基底（20；40）的至少一部分进行真空辅助的烧结，形成该石英玻璃坩埚和该透明的石英玻璃内层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，按照方法步骤（a）通过热致密化，优选借助电弧（6）来固定该颗粒层（4）。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，按照方法步骤（a）固定该颗粒层（4）包括机械压制该颗粒层（4）或在颗粒层（4）上施用SiO₂浆料。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，根据方法步骤（b）生成该多孔SiO₂灰料层（21；41），使其平均密度为石英玻璃密度的10%-35%，优选为石英玻璃密度的15%-30%。

5.根据上述权利要求之一所述的方法，其特征在于，根据方法步骤（b）生成该SiO₂灰料层（21；41），使其层厚度为5 mm至50 mm。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，该灰料层（21；41）在真空辅助烧结之前具有一个厚度少于5 mm、密度超过石英玻璃密度的50%的上灰料表层。

7.根据权利要求5所述方法，其特征在于，该灰料层（21）的生成和预致密化是借助一个灰料沉积燃烧器（24）在该上灰料表层区域中进行的。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，该灰料层（21；41）在真空辅助烧结之前具有一个厚度低于0.5 mm的玻璃表层。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，该SiO₂灰料层（21）经历一个干燥过程用以降低羟基含量，其中，在一个坩埚基底内部空间（3）的内部设定一种干燥气体气氛，并且该干燥气体被加热并通过该多孔灰料层（41）从内部空间向外部抽出。

10.根据权利要求9所述方法，其特征在于，该内层的石英玻璃内的中位羟基含量被调节到低于150重量ppm。

11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，该坩埚基底（20）能够围绕一条中轴线（2）转动、并且具有一个底部区和一个与该底部区相连接的带有上边缘的环形侧壁区，并且按照方法步骤（b）借助一个沉积燃烧器（24）在围绕该中轴线（2）转动的坩埚基底（20）处沉积该多孔的SiO₂灰料层（21），其方式为使该坩埚基底从该底部区开始按照一个螺旋形的运动路径沿该侧壁区向该上边缘方向运动。

12.根据权利要求1至10中任一项所述的方法，其特征在于，按照方法步骤（b）借助一种包括多个沉积燃烧器的燃烧器安排来沉积该多孔的SiO₂灰料层（21）。