[发明专利]光扩散元件及带光扩散元件的偏振板的制造方法、及由这些方法所得的光扩散元件及带光扩散元件的偏振板

说明书

技术领域

本发明涉及一种光扩散元件及带光扩散元件的偏振板的制造方法、及由这些方法所得的光扩散元件及带光扩散元件的偏振板。

背景技术

光扩散元件广泛用于照明罩、投影电视的屏幕、面发光装置(例如，液晶显示装置)等。近年来，正推进将光扩散元件用于液晶显示装置等的显示质量的提高、视角特性的改善等。作为光扩散元件，提出有将微粒分散在树脂片材等的基质中而成的光扩散元件等(例如参照专利文献1)。在这种光扩散元件中，入射光的大部分向前方(射出面侧)散射，但一部分向后方(入射面侧)散射。微粒与基质的折射率差越大，扩散性(例如，浊度值)变得越大，但若折射率差较大，则会导致后向散射增大。更具体而言，例如提出有将光扩散元件配置于液晶显示装置的最表面以提高液晶显示装置的显示质量的技术，但这样的光扩散元件不具有充分的光扩散性(例如，浊度值低于90％)，使得显示质量的改善效果不充分。另一方面，若为提高显示质量而将光扩散性较大(例如，浊度值为90％以上)的光扩散元件用于液晶显示装置，则存在如下问题，即，外部光入射至液晶显示装置时导致画面发白，使得明处难以显示对比率较高的影像或图像。其原因在于：光扩散元件中的微粒不仅会使入射光向前方散射，而且还使其向后方散射。根据以往的光扩散元件，由于浊度值变得越大，则后向散射变得越大，因此极难兼顾到光扩散性的增大与后向散射的抑制。进而，在照明用途中，若浊度值增大，则后向散射增大，总光线透过率下降，因此也会导致光利用效率下降。

作为解决如上所述的问题的方法，基于所谓抑制微粒与基质的界面上的反射的概念，而提出将核与壳的折射率不同的核壳微粒或折射率从微粒的中心部朝向外侧连续变化的所谓GRIN(gradient index，梯度指数)微粒等折射率倾斜微粒分散在树脂中(例如参照专利文献2～8)。然而，通过这些任一种技术，均无法获得既薄且浊度较高的光扩散元件。进而，这些技术中所使用的微粒是因制造工艺较普通微粒更复杂，故而生产性不充分，无法实用。

[以往技术文献]

[专利文献1]日本专利第3071538号

[专利文献2]日本专利特开平6-347617号公报

[专利文献3]日本专利特开2003-262710号公报

[专利文献4]日本专利特开2002-212245号公报

[专利文献5]日本专利特开2002-214408号公报

[专利文献6]日本专利特开2002-328207号公报

[专利文献7]日本专利特开2010-077243号公报

[专利文献8]日本专利特开2010-107616号公报

发明内容

本发明正是为了解决上述以往的课题而完成的发明，其目的在于，提供一种可以以低成本且非常高的生产性制造具有较强的光扩散性、后向散射受到抑制的非常薄的光扩散元件的方法。

[解决问题的技术手段]

本发明的光扩散元件的制造方法包括如下工序：将包含树脂成分的单体及超微粒成分的基质形成材料、光扩散性微粒及溶解该单体的溶剂进行混合的工序，以及使该单体聚合的工序；并且

将该单体溶解在该溶剂中所得的溶液中的该光扩散性微粒的ζ电位与将该单体溶解在该溶剂中所得的溶液中的该超微粒成分的ζ电位为相同符号。

在优选的实施方式中，上述制造方法还包括如下工序：使上述混合工序中制备的混合液中的光扩散性微粒的ζ电位降低至上述混合工序中刚制备后不久的混合液中的光扩散性微粒的ζ电位的60％以下的工序。

在优选的实施方式中，上述制造方法还包括如下工序：使上述混合工序中制备的混合液中的光扩散性微粒的ζ电位设为从上述混合工序中刚制备后不久的混合液中的光扩散性微粒的ζ电位降低6mV以上。

在优选的实施方式中，降低上述ζ电位的工序包含选自由如下处理所组成的组的至少一种处理：将上述混合液在室温下静置10小时以上、对上述混合液实施选自超声波处理及利用搅拌机的分散处理的处理、以及对上述混合液实施加热处理。

在优选的实施方式中，上述制造方法在降低上述ζ电位的工序之后，还包括将上述混合液中的光扩散性微粒的浓度进行均匀化的工序。

在优选的实施方式中，上述超微粒成分的平均一次粒径为1nm～100nm。