[发明专利]光扩散元件及带光扩散元件的偏振板的制造方法、及由这些方法所得的光扩散元件及带光扩散元件的偏振板

权利要求书

1.一种光扩散元件的制造方法，其包括如下工序：

将包含树脂成分的单体及超微粒成分的基质形成材料、光扩散性微粒及溶解该单体的溶剂进行混合的工序；以及

使该单体聚合的工序；并且

将该单体溶解在该溶剂中所得的溶液中的该光扩散性微粒的ζ电位与将该单体溶解在该溶剂中所得的溶液中的该超微粒成分的ζ电位为相同符号。

2.如权利要求1所述的光扩散元件的制造方法，其中，还包括如下工序：

使所述混合工序中制备的混合液中的光扩散性微粒的ζ电位降低至所述混合工序中刚制备后不久的混合液中的光扩散性微粒的ζ电位的60％以下。

3.如权利要求1所述的光扩散元件的制造方法，其中，还包括如下工序：

使所述混合工序中制备的混合液中的光扩散性微粒的ζ电位从所述混合工序中刚制备后不久的混合液中的光扩散性微粒的ζ电位降低6mV以上。

4.如权利要求2或3所述的光扩散元件的制造方法，其中，

降低所述ζ电位的工序包含选自由如下处理所组成的组的至少一种处理：将所述混合液在室温下静置10小时以上、对所述混合液实施选自超声波处理及利用搅拌机的分散处理的处理、以及对所述混合液实施加热处理。

5.如权利要求2～4中任意一项所述的光扩散元件的制造方法，其中，

在降低所述ζ电位的工序之后，还包括将所述混合液中的光扩散性微粒的浓度进行均匀化的工序。

6.如权利要求1～5中任意一项所述的光扩散元件的制造方法，其中，

所述超微粒成分的平均一次粒径为1nm～100nm。

7.如权利要求1～6中任意一项所述的光扩散元件的制造方法，其中，包括如下工序：

制备包含所述基质形成材料及所述光扩散性微粒的涂敷液的工序；

一面搬送长条状的基材，一面在该基材上涂布该涂敷液的工序；以及

一面搬送涂布有该涂敷液的基材，一面使该涂敷液中的所述树脂成分的单体聚合的工序。

8.如权利要求1～7中任意一项所述的光扩散元件的制造方法，其中，

在所述混合工序之后、所述聚合工序之前，还包括在该混合工序中制备的混合液中的光扩散性微粒的表面附近，形成该超微粒成分的存在比率随着远离该光扩散性微粒而变高的浓度调制区域的工序。

9.一种带光扩散元件的偏振板的制造方法，其中，包括如下处理：

将通过权利要求1～8中任意一项所述的制造方法所得的光扩散元件与偏振板进行贴合。

10.一种光扩散元件，其由权利要求1～8中任意一项所述的制造方法而得到，该光扩散元件具有基质及分散在该基质中的光扩散性微粒，在该基质与该光扩散性微粒的界面附近，形成有折射率实质上连续变化的折射率调制区域。

11.一种带光扩散元件的偏振板，其由如权利要求9所述的制造方法而得到。

12.一种光扩散元件形成用混合液，其是用于形成光扩散元件的混合液，其中，

该光扩散元件形成用混合液具有：包含树脂成分的单体及超微粒成分的基质形成材料、光扩散性微粒及溶解该单体的溶剂，

在该光扩散性微粒的表面附近，具有该超微粒成分的存在比率随着远离该光扩散性微粒而变高的浓度调制区域。

13.一种光扩散元件形成用混合液的制造方法，其是权利要求12的光扩散元件形成用混合液的制造方法，该制造方法包括如下工序：

将包含树脂成分的单体及超微粒成分的基质形成材料、光扩散性微粒及溶解该单体的溶剂进行混合的工序；以及

在该混合工序中制备的混合液中的光扩散性微粒的表面附近外部，形成该超微粒成分的存在比率随着远离该光扩散性微粒而变高的浓度调制区域。

14.如权利要求13所述的光扩散元件形成用混合液的制造方法，其中，

使所述单体溶解于所述溶剂中所得的溶液中的光扩散性微粒的ζ电位与将所述单体溶解于所述溶剂中所得的溶液中的超微粒成分的ζ电位为相同符号。