[发明专利]基于氟的聚合物薄膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种基于氟的聚合物薄膜及其制备方法。本申请要求于2010年7月22日和2011年7月22日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2010-0070903和10-2011-0073128号的优先权，它们的公开内容通过引用整体并入本文。

背景技术

通常，基于氟的聚合物具有约5~6达因/厘米的低表面能，以实现抗水性、疏油性、耐化学性、润滑性、脱模性、防污性等功能。具有上述功能的氟化合物可以广泛应用在例如高科技工业和精细化学品的特殊领域至日常生活的各种领域中，并且当前对其的需求正在快速增加。特别是，随着个人计算机普及和汽车使用普遍化，已经积极开发了防止材料表面受到外部污染物的污染的材料。硅化合物、氟化合物等被广泛用作保护表面的各种表面涂层剂的原料。

但是，基于氟的聚合物的问题在于，由于低表面能导致与基底之间的粘合强度差。在使用已知的热丝CVD方法沉积基于氟的聚合物时，-CF₂-基团和玻璃之间的键合部分小，因此，可以确认对基底的粘合强度相当低。这是低表面能基于氟的聚合物经常发生的问题，而为了弥补该问题，在聚合物基底上沉积之前进行等离子体处理。

特别是，在玻璃的情况下，与例如PET的聚合物基底相比，基于氟的聚合物薄膜的粘合强度非常低，因此，已经尝试使用间层等来解决上述问题。

因此，在本领域中，需要研究制备对基底具有优异粘合强度的基于氟的聚合物薄膜的方法。

发明内容

技术问题

因此，本发明致力于提供一种制备具有低表面能和在基底上的优异粘合强度的基于氟的聚合物薄膜的方法。

技术方案

本发明的一个示例性实施方案提供了一种制备基于氟的聚合物薄膜的方法，包括如下步骤：a）在第一基底上形成基于氟的聚合物薄膜；b)在所述基于氟的聚合物薄膜上形成包含第一官能团的薄层；c）在第二基底上形成包含第二官能团的薄层；以及d）使所述第一官能团和所述第二官能团彼此化学键合。

本发明的另一个示例性实施方案提供了一种多层膜，其包括由上述制备方法制备的基于氟的聚合物薄膜。

本发明的又一个示例性实施方案提供了一种多层膜，该多层膜包括：基底；基于氟的聚合物薄膜；以及在所述基底和基于氟的聚合物薄膜之间的粘合层，该粘合层包含由下面化学式1表示的二价官能团。

[化学式1]

有益效果

根据本发明的示例性实施方案，可以在基底上牢固地形成基于氟的聚合物薄膜，并且可以改善耐久性并长时间保持抗水性和防污性。此外，本发明在基底上形成基于氟的聚合物薄膜的方法具有优异的可操作性，并且当基底破损时容易修复。

附图说明

图1是本发明的一个示例性实施方案，是显示包括在基底上的粘合层和基于氟的聚合物薄膜的多层膜的视图。

图2是本发明的示例性实施方案，是示意性地显示在基底上形成基于氟的聚合物薄膜的薄层的视图。

图3是本发明的示例性实施方案，是说明根据实施例1的基于氟的聚合物薄膜的粘合性能的视图。

附图标记和符号说明

10：基底

20：粘合层

30：基于氟的聚合物薄膜

40：第一基底

50：包含第一官能团的薄层

60：第二基底

70：包含第二官能团的薄层

具体实施方式

以下，将详细地描述本发明。

根据本发明的制备基于氟的聚合物薄膜的方法包括下列步骤：a）在第一基底上形成基于氟的聚合物薄膜；b)在所述基于氟的聚合物薄膜上形成包含第一官能团的薄层；c）在第二基底上形成包含第二官能团的薄层；以及d）使所述第一官能团和所述第二官能团彼此化学键合。

根据本发明的制备基于氟的聚合物薄膜的方法可以进一步包括在步骤d）后分离所述第一基底。

步骤a）是在第一基底上形成基于氟的聚合物薄膜的步骤，所述基于氟的聚合物薄膜可以使用本领域中已知的方法形成，更具体而言，所述基于氟的聚合物薄膜可以使用溅射法、减压CVD法、等离子体CVD法、热丝化学气相沉积（CVD）法、湿涂法、热或电子束蒸发法等形成。特别是，更优选使用热丝化学气相沉积（CVD）法形成所述基于氟的聚合物薄膜。