[发明专利]在基板处理系统中使用的窗组件有效
申请号: | 201180028089.7 | 申请日: | 2011-05-26 |
公开(公告)号: | CN102934200A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 戴维·K·卡尔森 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 系统 使用 组件 | ||
1.一种在基板处理系统中使用的窗组件,包括:
第一窗,所述第一窗对光能量至少部分透明;
第二窗,所述第二窗对光能量透明,并且实质上平行于所述第一窗;以及
分隔件,所述分隔件被设置成与所述第一窗和所述第二窗的周边边缘接近,并且在所述第一窗与所述第二窗之间限定密封间隙,其中所述分隔件具有入口与出口,以使气体流过所述密封间隙。
2.如权利要求1所述的窗组件,进一步包括:
一个或多个支撑构件,所述支撑构件设置在所述密封间隙中并且耦合至所述第一窗或所述第二窗中的至少一个,每一支撑构件在所述第一窗与所述第二窗之间延伸,以在所述第一窗与所述第二窗之间保持实质上一致的间隙距离。
3.如权利要求1所述的窗组件,进一步包括:
多个光调整构件,所述光调整构件设置在所述间隙中,以调整穿过所述光调整构件的光能量的一个或多个性质。
4.如权利要求3所述的窗组件,其中每一光调整构件进一步包括:
圆柱状管,所述圆柱状管具有与所述第一窗和所述第二窗垂直的中心轴,并且在所述圆柱状管的两端具有开口。
5.如权利要求4所述的窗组件,其中每一圆柱状管的壁的厚度介于约1mm至约6mm之间。
6.如权利要求4所述的窗组件,其中每一圆柱状管的壁的厚度与穿过所述壁的光能量的量成反比。
7.如权利要求4所述的窗组件,其中每一光调整构件包含石英。
8.如权利要求7所述的窗组件,其中每一光调整构件中的所述石英的不透明度介于约0%至约100%之间。
9.如权利要求1所述的窗组件,进一步包含:
管,所述管对穿过所述窗组件的光能量透明,并且沿着所述第一窗的面向间隙的表面延伸穿过所述分隔件并进入所述窗组件的所述间隙;
不透明石英区段,所述不透明石英区段设置在所述第一窗中并且在所述管的面向间隙的端上方;以及
热电偶,所述热电偶设置在所述管中并且具有位于所述管的面向间隙的端处的温度测量端。
10.如权利要求1所述的窗组件,其中所述第一窗的第一厚度与所述第二窗的第二厚度的比介于约1:1至约4:1之间。
11.如权利要求1所述的窗组件,其中所述第一窗与所述第二窗包含石英,并且其中所述分隔件包含石英或聚四氟乙烯(PTFE)中的一种。
12.一种基板处理系统,包括:
处理腔室,所述处理腔室具有设置在所述处理腔室的内部空间中的基板支撑件;
光源,所述光源将光能量导引朝向所述基板支撑件;以及
窗组件,所述窗组件如权利要求1至11中任一项所述,所述窗组件设置在所述处理腔室内,其中所述窗组件的所述第一窗具有面向大气的表面,而所述窗组件的所述第二窗具有面向内部空间的表面。
13.如权利要求12所述的系统,其中所述窗组件设置在所述基板支撑件上方且介于所述基板支撑件与所述光源之间,并且其中所述第一窗具有第一厚度,所述第一厚度大于所述第二窗的第二厚度。
14.如权利要求12所述的系统,其中所述窗组件设置在所述基板支撑件上方,所述光源设置在所述基板支撑件下方,并且其中所述窗组件进一步包括设置在所述第一窗的面向间隙的表面上的反射涂层,其中来自所述光源的光能量穿过所述第二层进入所述窗组件,并且其中所述光能量由所述反射涂层朝所述基板支撑件反射。
15.如权利要求14所述的窗组件,其中所述反射涂层包含金(Au)、镍(Ni)、或银(Ag)的至少一种、或反射石英。
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