[发明专利]涂覆粒子及涂覆粒子的制造方法在审
| 申请号： | 201180027811.5 | 申请日： | 2011-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN102933204A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 市川秀喜;福森义信;阿部悟;增江佑介 | 申请（专利权）人： | 学校法人神户学院;日本曹达株式会社 |
| 主分类号： | A61K9/14 | 分类号： | A61K9/14;A61K31/167;A61K47/02;A61K47/10;A61K47/12;A61K47/14;A61K47/34;A61K47/38;A61K47/44 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 金世煜;苗堃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 粒子 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种涂覆粒子，是对核粒子覆盖涂覆层而成的，该涂覆层是包含羟基烷基纤维素和粘合剂的层。
2.根据权利要求1所述的涂覆粒子，其中，所述粘合剂是选自聚亚烷基二醇、聚亚烷基二醇高级脂肪酸酯、高级脂肪酸、高级醇、高级醇酯以及天然蜡中的至少1种。
3.根据权利要求1或2所述的涂覆粒子，其中，所述涂覆层进一步含有溶出控制基质和/或二氧化硅。
4.一种涂覆粒子的制法，包括：
第1工序，对核粒子干式涂覆羟基烷基纤维素和粘合剂。
5.根据权利要求4所述的涂覆粒子的制法，其中，包括：
第2工序，对在第1工序中得到的粒子干式涂覆溶出控制基质和粘合剂。
6.根据权利要求4所述的涂覆粒子的制法，其中，包括：
第3工序，用二氧化硅将在第1工序中得到的粒子进行外层涂覆。
7.根据权利要求4或5所述的涂覆粒子的制法，其中，包括如下工序：
第2工序，对在第1工序中得到的粒子干式涂覆溶出控制基质和粘合剂；和
第3工序，用二氧化硅将在第2工序中得到的粒子进行外层涂覆。
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