[发明专利]在衬底上形成图案的方法

权利要求书

1.一种在衬底上形成图案的方法，其包括：

在衬底上方形成间隔开的特征；

使聚合物吸附到所述间隔开的特征的横向外表面；以及

相对于所述所吸附聚合物选择性地移除所述间隔开的特征的材料，或相对于所述间隔开的特征选择性地移除所述所吸附聚合物的材料，以在所述衬底上形成图案。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述吸附包括物理吸附。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述吸附包括化学吸附。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物具有已知链长度且具有相对纵向末端，所述聚合物的所述纵向末端之一吸附到所述横向外表面，由此所述所吸附聚合物从所述横向外表面纵向伸出，其中所述链长度界定所述所吸附聚合物在所述间隔开的特征上的实质上均一横向厚度。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物包括一个亲近所述横向外表面的组合物并吸附到其的纵向末端。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物包括一个疏远所述横向外表面的组合物的纵向末端。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述一个纵向末端是疏水的。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物包括一个亲近所述横向外表面的组合物并吸附到其的纵向末端，且包括一个与所述纵向末端相对且疏远所述横向外表面的所述组合物的纵向末端。

9.根据权利要求1所述的方法，其包括相对于所述所吸附聚合物选择性地移除所述间隔开的特征的材料。

10.根据权利要求1所述的方法，其包括相对于所述间隔开的特征选择性地移除所述所吸附聚合物的材料。

11.根据权利要求1所述的方法，其包括使所述聚合物吸附到所述间隔开的特征的立面外表面。

12.根据权利要求1所述的方法，其包括：

在直接邻近的所述间隔开的特征之间提供空隙空间，所述间隔开的特征具有吸附到其的聚合物；

将填充材料沉积到所述空隙空间内、所述间隔开的特征上方和所述所吸附聚合物上方；以及

移除所述填充材料以暴露所述所吸附聚合物并留下在所述空隙空间内的填充材料。

13.根据权利要求12所述的方法，其包括移除所述填充材料以暴露所述间隔开的特征并留下在所述空隙空间内的填充材料。

14.根据权利要求13所述的方法，其包括使所述聚合物吸附到所述间隔开的特征的立面外表面，所述沉积在吸附到所述立面外表面的所述聚合物上方形成所述填充材料，所述移除包含移除吸附到所述立面外表面的所述聚合物以暴露所述间隔开的特征。

15.根据权利要求12所述的方法，其中所述填充材料具有与所述间隔开的特征的立面外表面相同的组合物。

16.根据权利要求12所述的方法，其中所述填充材料具有与所述间隔开的特征的立面外表面不同的组合物。

17.根据权利要求12所述的方法，其包括相对于所述间隔开的特征和所述填充材料选择性地移除所述所吸附聚合物的材料。

18.根据权利要求1所述的方法，其中所述图案是掩模图案，且进一步包括通过所述掩模图案处理所述衬底。

19.根据权利要求1所述的方法，其中所述图案经形成以包括用于后续a)化学修饰、b)选择性化学处理和c)在定向自组装中选择性沉积功能组份中的一项的位点。

20.根据权利要求1所述的方法，其中所述横向外表面包括光致抗蚀剂。

21.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物是共聚物。

22.根据权利要求21所述的方法，其中所述聚合物是嵌段共聚物。

23.根据权利要求21所述的方法，其中所述聚合物是接枝共聚物。

24.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物是寡聚物。

25.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物是两亲化合物。