[发明专利]碳环核苷和其中使用的中间体的合成方法

权利要求书

1.制备式1化合物的方法，所述方法包括以下步骤：

i)在Mitsunobu型反应条件下，使式2化合物与式3化合物反应，得到式4化合物；

其中，PG₁,PG₂,PG₃和PG₄是保护基，且相同或不同；

ii)对式4化合物脱保护，得到式1化合物

2.根据权利要求1的方法，其中，所述Mitsunobu型反应条件包括烷基膦或芳基膦和基于偶氮的化合物。

3.根据权利要求2的方法，其中，所述烷基膦是PMe₃。

4.根据权利要求2的方法，其中，所述芳基膦是PPh₃。

5.根据权利要求2至4中的任一项的方法，其中，所述基于偶氮的化合物选自偶氮二甲酸二乙酯（DEAD）、偶氮二甲酸二异丙酯（DIAD）、偶氮二甲酸二叔丁酯、2-(苯基偶氮)吡啶（azpy）、偶氮二甲酸二对氯苄酯（DCAD）或1,1’-(偶氮二羧基)二哌啶（ADDP）。

6.根据权利要求2至4中的任一项的方法，其中，所述基于偶氮的化合物是偶氮二甲酸二异丙酯（DIAD）。

7.根据权利要求1的方法，其中，所述Mitsunobu型反应条件包括正膦叶立德。

8.根据权利要求7的方法，其中，所述正膦叶立德选自（氰基亚甲基）三甲基正膦或三丁基正膦。

9.根据权利要求1至8中的任一项的方法，其中，所述用于Mitsunobu型反应的溶剂选自四氢呋喃、乙腈、二氯甲烷、甲苯或其混合物。

10.根据权利要求1至8中的任一项的方法，其中，所述用于Mitsunobu型反应的溶剂是四氢呋喃。

11.根据权利要求1至10中的任一项的方法，其中，所述Mitsunobu型反应在室温下进行。

12.根据权利要求1-11中的任一项的方法，其中，所述式2和3的化合物上的保护基是对酸不稳定的保护基。

13.根据权利要求1至12中任一项的方法，其中，所述存在于式2化合物中的氧原子上的各个保护基PG₁和PG₂独立地选自乙酰基、苯甲酰基、苄基、β-甲氧基乙氧基甲基醚（MEM）、二甲氧基三苯甲基（DMT）、甲氧基三苯甲基（MMT）、三苯甲基、甲氧基甲基醚（MOM）、对甲氧基苄基醚（PMB）、新戊酰基（Piv）或四氢吡喃基（THP）。

14.根据权利要求1至12中的任一项所述的方法，其中，所述用于保护式2化合物中的两个氧原子的保护基PG₁和PG₂一起形成醛或缩酮。

15.根据权利要求14的方法，其中，所述缩醛是苯甲醛缩醛。

16.根据权利要求1至15中任一项的方法，其中，所述存在于式3化合物中的氧原子上的保护基PG₃选自乙酰基、苯甲酰基、苄基、β-甲氧基乙氧基甲基醚（MEM）、二甲氧基三苯甲基（DMT）、甲氧基三苯甲基（MMT）、三苯甲基、甲氧基甲基醚（MOM）、对甲氧基苄基醚（PMB）、新戊酰基（Piv）或四氢吡喃基（THP）。

17.根据权利要求16的方法，其中，所述式3化合物中的氧原子上的保护基PG₃是苄基。

18.根据权利要求1-17中的任一项所述的方法，其中，所述式3化合物中的氮原子上的保护基PG₄选自叔丁氧羰基（BOC）、甲苯磺酰基（Ts）或基于甲硅烷基的保护基。

19.根据权利要求1至17中的任一项的方法，其中，所述式3化合物中的氮原子上的保护基PG₄是叔丁氧羰基（BOC）。

20.根据权利要求1-19中的任一项所述的方法，其中，所述方法的用于对式4化合物脱保护的步骤（ii）以一锅法进行。