[发明专利]用于装载衬底的方法和设备无效
申请号: | 201180020231.3 | 申请日: | 2011-02-21 |
公开(公告)号: | CN102859443A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | A·索斯奥德特 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 装载 衬底 方法 设备 | ||
1.一种方法,包括:将衬底装载到衬底台上,然后移动衬底台,使得在衬底的参照系中衬底台以至少为重力加速度的10%的加速度向下加速,由此减小衬底和衬底台之间的摩擦使得衬底的变形能够至少部分地从衬底消除。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述加速度是重力加速度的至少50%。
3.如权利要求2所述的方法,其中所述加速度等于或大于重力加速度。
4.如权利要求3所述的方法,其中所述加速度为重力加速度的两倍或更大。
5.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中在衬底台的向下移动期间衬底没有被夹持至衬底台。
6.如权利要求1-4中任一项所述的方法,其中在衬底台的向下移动期间衬底的一部分被夹持至衬底台。
7.如权利要求1-4中任一项所述的方法,其中在衬底台的向下移动期间通过以较慢的加速度向下移动衬底台的一部分将衬底的一部分固定至衬底台。
8.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述方法还包括随后将衬底夹持至衬底台。
9.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中在光刻设备中执行所述方法。
10.如权利要求9所述的方法,其中所述方法还包括使用光刻设备的投影系统将图案投影到衬底上。
11.一种设备,包括衬底台和定位装置,所述衬底台配置成支撑衬底,所述定位装置配置成移动衬底台,使得在衬底的参照系中,衬底台以至少为重力加速度的10%的加速度向下加速,由此减小衬底和衬底台之间的摩擦使得衬底的变形能够至少部分地从衬底消除。
12.如权利要求11所述的设备,其中定位装置配置成以至少为重力加速度的50%的加速度向下移动衬底台。
13.如权利要求12所述的设备,其中定位装置配置成以等于或大于重力加速度的加速度向下移动衬底台。
14.如权利要求13所述的设备,其中定位装置配置成以等于重力加速度的两倍或更大的加速度向下移动衬底台。
15.如权利要求11至14中任一项所述的设备,其中所述设备形成光刻设备的一部分。
16.如权利要求15所述的设备,其中光刻设备包括:
照射系统,配置成调节辐射束;
支撑结构,构造成支撑图案形成装置,所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束;
所述衬底台;和
投影系统,配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。
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