[发明专利]等离子处理装置无效

专利信息
申请号: 201180020022.9 申请日: 2011-03-24
公开(公告)号: CN103098183A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 真弓聪;屋代进 申请(专利权)人: 积水化学工业株式会社
主分类号: H01L21/3065 分类号: H01L21/3065
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 等离子 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种等离子处理装置,使处理气体通过接近大气压的放电空间后与配置于所述放电空间的外部的被处理物接触,其特征在于,具备:

3个以上的电极,各自形成为具有下端面以及与所述下端面交叉的放电生成面的板状,并按照使相邻电极彼此的所述放电生成面相对的方式,在与所述放电生成面交叉的排列方向上排列;

电介质部件,其由覆盖所述各放电生成面且勾画所述放电空间的板状的固体电介质构成;和

清洗喷嘴,其按照使清洗气体沿着所述3个以上的电极中的配置于内侧的电极的下端面流动的方式来喷出该清洗气体。

2.根据权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,

所述清洗喷嘴配置在所述内侧的电极的下端面的与所述排列方向正交的长边方向的一端侧。

3.根据权利要求1或2所述的等离子处理装置,其特征在于,

在所述3个以上的电极的下方,隔着间隙并跨过这些电极而设置有气体导出部,所述电介质部件比所述电极更向下突出从而与所述气体导出部连结,在所述气体导出部的内部形成有与所述放电空间相连的气体导出路径,

所述清洗喷嘴按照面向所述内侧的电极与所述气体导出部之间的间隙即内侧间隙在与所述排列方向正交的长边方向的一端侧的开口的方式来配置,所述内侧间隙在所述长边方向的另一端侧的开口开放。

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