[发明专利]合并多个几何像素图像并生成单个调制器像素图像的方法

说明书

相关申请

本申请涉及并要求与本发明名称相同的美国临时专利申请No.61/311,276的利益。本申请还涉及名为“修正SLM印记图像缺陷的方法和装置(Method and Device for Correcting SLM Stamp Image Imperfections)”的美国专利Nos.7,328,425、名为“在工件上形成图案的方法和设备(Methodand Apparatus for Patterning a Workpiece)”的美国专利7,405,414以及名为“半导体个性化生产的方法和装置(Method and Apparatus for Personalizationof Semiconductor)”的美国专利7,842,525。本申请还涉及名为“微光刻印刷中梯度辅助的重采样(Gradient Assisted Resampling in Micro-LithographicPrinting)”的美国专利公开2010/631595Al。本申请也涉及名为“部分相关照射的照射方法和装置(Illumination Methods and Devices for PartiallyCoherent Illumination)”的美国专利申请No.12/718,904。

技术领域

本发明涉及定制专用工件，比如芯片、平板或其它通过直接写入自定义图案而在基板上生产的电子装置。定制可以按装置、按基板、按批次进行或者用于其它一些无法使用自定义掩模或掩模组的小型存储媒体。特别地，本发明涉及定制在基板上的辐射敏感层中形成的潜像，合并标准图案数据和自定义图案数据以形成用于生产定制的潜像的自定义图案。很多种基板可得益于本发明所公开的技术。

背景技术

将自定义、个性化或独特的信息永久性地装入集成电路有时候是有用的。这种用处已导致多种一次性可编程或单次写入存储器的开发。一个例子在名为“包括各向异性的半导体薄片的单次写入存储器的二极管－熔丝存储器元件(Diode-and-Fuse Memory Elements for a Write-Once MemoryComprising an Anisotropic Semi Conductor Sheet)”的美国专利No.6,813,182中找到。该专利所描述的交叉点存储元件可以从熔丝完好状态转换成熔丝烧断状态仅一次，进而提供单次写入存储。

另一个例子在名为“半导体设备及其数据元件和制造方法(SemiConductor Device,Data Element Thereof and Method of Fabricating theSame)”的美国专利公开2010/0001330A1中找到。该申请描述了工厂编程ROM类别中的非易失性存储器(也称掩模ROM)，以及现场可编程存储器。

与熔丝存储方法相相比，Micronic Laser/Micronic Mydata的开发团队以前曾提出将步进光刻机的特征与SLM结合以将来自掩模的标准数据和来自SLM的自定义数据在光学上合并。该技术领域公开的两项专利包括同样名为“半导体个性化生产的方法和设备(Method and Apparatus forPersonalization of Semiconductor)”的美国专利No.6,813,058以及No.7,842,525。

于是，有机会提供新技术将自定义、个性化或独特的信息永久性地装入集成电路。新技术可以更好地集成到产品中、更为可靠、更为灵活或更具成本效益。

发明内容

本发明涉及定制专用工件，比如集成电路、平板或其它通过直接写入自定义图案而在基板上生产的电子装置。定制可以按装置、按基板、按批次进行或者用于其它一些无法使用自定义掩模或掩模组的小型存储媒体。特别地，本发明涉及定制在基板上的辐射敏感层中形成的潜像，合并标准图案数据和自定义图案数据以形成用于生产定制的潜像的自定义图案。很多种基板可得益于本发明所公开的技术。本发明的具体各方面在权利要求书、说明书和附图中描述。

附图说明

图1示出了SLM图案生成器的总体布局。

图2示出了具有三个臂的扫描系统以及被写入在中枢相对的两侧上的一对工件。

图3示出了包括重采样至调制器栅格的通用数据通路。

图4是合并标准图案数据和自定义图案数据的数据流的高级框图。

图5示出了其上形成有多块裸片(dies)的圆形晶片和矩形基板。

图6示出了不同像素尺寸和瓦块尺寸的栅格。