[发明专利]过滤器箱、曝光装置、及元件制造方法

说明书

技术领域

本发明系关于保持用以除去例如气体中的不纯物等的过滤器的过滤器箱、具备此过滤器箱的曝光装置、以及用以使用此曝光装置制造例如半导体元件、液晶显示元件、或摄影元件等的元件制造方法。

背景技术

在用以制造例如半导体元件等电子元件(微型元件)的微影制程中使用的曝光装置中，为了得到高曝光精度(解像度及定位精度等)，需将照明光学系统的照明特性及投影光学系统的成像特性维持于既定的状态且将设置标线片(或掩膜等)、投影光学系统、以及晶圆(或玻璃板等)的空间维持于既定的环境。因此，以往包含曝光装置的照明光学系统的一部分、标线片载台、投影光学系统、以及晶圆载台等的曝光本体部设置于箱型腔室内，于此腔室内具备空调装置，该空调装置系将控制成既定温度且通过滤尘器的清净气体(例如空气)以降流方式及侧流方式供给。

又，曝光装置中，为了对应近年的电路图案的显著微细化要求，曝光用光的波长不断变短，最近系使用KrF准分子激光(波长248nm)及进一步大致为真空紫外区的ArF准分子激光(波长193nm)作为曝光用光。在使用此种短波长的曝光用光时，当于曝光用光所通过的空间(例如镜筒的内部空间)内存在微量的有机物的气体(有机系气体)时，曝光用光的透射率即会降低，且有因曝光用光与有机系气体的反应而于透镜元件等光学元件的表面产生雾物质之虞。再者，最好系从供应至腔室内的气体亦除去与涂布于晶圆的光阻(感光材料)反应的碱性物质的气体(碱系气体)等。

因此，以往系于曝光装置的空调装置的气体的撷取部，设有用以从供给至腔室内的气体除去有机系气体及／或碱系气体等的复数个化学过滤器(参照例如专利文献1)。

[专利文献]

[专利文献1]国际公开第2004／108252号说明书。

发明内容

以往的曝光装置中，在将化学过滤器设置于盒体内时，例如将收纳化学过滤器的平板状框架以横置(过滤器面成为铅直方向的面向)搬入至抵接于盒体内的侧壁后，作业者系将该框架沿该侧壁相对过滤器面于法线方向移动至既定的设置位置为止。此情形下，若于框架的端面与形成有该盒体的通气用开口的分隔构件的面之间有间隙，即有包含不纯物的气体不通过化学过滤器而经由此间隙被供给至曝光本体部之虞。因此，用以将该框架正确地定位于其设置位置的时间变长、进而使用完毕的化学过滤器的更换时间亦变长。

再者，曝光装置中，由于对应被要求的曝光精度的更加提升而增加所设置的化学过滤器的数目，因此需正确且有效率地进行化学过滤器的更换。

本发明有鉴于上述情事，其目的在于能将过滤器的设置以容易定位的方式进行。

根据本发明的第1态样，提供一种过滤器箱，系保持过滤器，其特征在于，具备：保持该过滤器的框架；以及设于该框架的第1把手部；具有形状变化部，其设于该框架的侧面的至少一部分，从该框架的两个端面中一端面侧往另一端面侧且变化至该框架外侧。

又，根据本发明的第2态样，提供一种曝光装置，系以曝光用光经由图案使基板曝光，其特征在于，具备：腔室，收纳使该基板曝光的曝光本体部；本发明的至少一个过滤器箱；以及空调装置，将从该腔室的外部撷取的气体经由该过滤器箱送至该腔室内。

又，根据本发明的第3态样，提供一种元件制造方法，其特征在于，包含：使用本发明的曝光装置使感光性基板曝光的动作；以及处理该已曝光的感光性基板的动作。

根据本发明，能将过滤器的设置以容易定位的方式进行。

附图说明

图1系显示实施形态一例的曝光装置的构成的一部分已切除的图。

图2系显示图1的过滤器装置26的立体图。

图3系显示图2的过滤器装置26的剖面图。

图4(A)系显示图3中的过滤器箱38的立体图，(B)系显示图3中的过滤器箱40的立体图。

图5(A)及(B)系分别显示过滤器箱38与盒体28的相对位置的变化的一部分已切除的俯视图。

图6(A)及(B)系分别显示过滤器箱38,40与盒体28的相对位置的变化的一部分已切除的俯视图。

图7(A)系显示第1变形例的过滤器箱38A的立体图，(B)系显示第1变形例的过滤器箱40A的立体图。

图8(A)系显示第2变形例的过滤器箱38B的立体图，(B)系显示第2变形例的过滤器箱40B的立体图。

图9(A)、(B)、(C)系分别显示第3变形例、第4变形例、及第5变形例的过滤器箱的俯视图。