[发明专利]光学元件的制造方法及光学元件成型模具无效

专利信息
申请号: 201180010278.1 申请日: 2011-02-03
公开(公告)号: CN102781855A 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 小椋和幸;釜田善浩 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达先进多层薄膜株式会社
主分类号: C03B11/16 分类号: C03B11/16;C03B11/00;G01B11/27;G01M11/02;G02B7/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李洋;杨林森
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摘要:
搜索关键词: 光学 元件 制造 方法 成型 模具
【说明书】:

技术领域

本发明涉及光学元件的制造方法及光学元件成型模具。

背景技术

现在,光学元件被广泛用作为数码相机用透镜、DVD等光拾取透镜、手机用照相透镜、光通信用偶合透镜等等。这些由光学元件构成的光学系统被要求较高的性能,因此,就光学元件单体,也希望能够用更高的精度来形成。

上述光学元件有通过模压成型法、用成型模具加压成型被加热软化的玻璃来进行制造的情况。

模压成型法中,除了必须高精度地形成模具上用来成型光学元件面对面的光学面的模具成型面之外,还必须高精度对准该相对的模具成型面的相对位置。

为了高精度对准模具的相对位置,有时例如评价用该模具成型的光学元件,根据评价,调整该模具的相对位置。例如,有下述技术已为公开:形成由在光学透镜两透镜面各光轴上持有中心的小突起构成的凸部,从各凸部的位置偏离求得两透镜面的偏芯量,根据该偏芯量,调整成型光学透镜之成型模具的相对位置(请参照例如专利文献1)。

专利文献1:特开2006-58850号公报

专利文献1中记载的模具的相对位置调整,是形成在光学透镜光轴上持有中心的凸部,在调整中利用。因此,成型的光学透镜上,尤其是直径小的时候,多少对光学性能有所影响,有时得不到充分的性能。另外,还必须在模具成型光学透镜光学面的成型面上,不影响该成型面地形成与凸部相应的凹洼,因此模具制造的负担增大。

发明内容

本发明鉴于上述课题,目的在于提供一种光学元件的制造方法以及光学元件成型模具,其中,不设影响光学性能的凸部等,能够成型高精度的光学元件。

上述课题通过下述构成得以解决。

1.一种光学元件的制造方法,是采用一对成型模具、其具有成型备有面对面光学面之光学元件的成型面,成型所述光学元件,光学元件制造方法的特征在于,

所述成型模具备有:成型用该成型模具制造的第1光学元件的成型面;与成型所述第1光学元件的成型面分开的、成型在调整一对所述成型模具的相对位置时使用的第2光学元件的成型面;

具有以下工序:

第1成型工序,采用所述成型模具,成型所述第2光学元件;

测定工序,根据在所述第1成型工序成型的所述第2光学元件的透过波前像差,求所述第2光学元件面对面光学面的相对位置偏离量;

相对位置调整工序,根据由所述测定工序求得的所述相对位置偏离量,调整一对所述成型模具的相对位置;

第2成型工序,采用经所述相对位置调整工序调整了相对位置的所述成型模具,成型所述第1光学元件。

2.上述1中记载的光学元件的制造方法,其特征在于,平面波或球面波入射到所述第1光学元件及所述第2光学元件上时,各透过波前偏离最接近所述第1光学元件及所述第2光学元件各设计透过波前之球面的偏差量,是所述第2光学元件的小于所述第1光学元件的。

3.上述1中记载的光学元件的制造方法,其特征在于,所述第2光学元件与所述第1光学元件相比较,相对面对面光学面相对位置偏离量的透过波前像差发生量的比率大。

4.上述1至3的任何一项中记载的光学元件的制造方法,其特征在于,所述第2光学元件的透过波前像差包括由面对面光学面的平行偏芯、倾斜偏芯的至少一个引起产生的像差。

5.上述1或3中记载的光学元件的制造方法,其特征在于,所述第2光学元件的透过波前像差包括由于面对面光学面以所述第2光学元件的光轴为轴相对旋转而引起产生的像差。

6.一种光学元件成型模具,其特征在于,具有在上述1至5的任何一项中记载的光学元件的制造方法中使用的所述第1光学元件及所述第2光学元件的成型面。

根据本发明,可以不牵涉第1光学元件的规格,使第2光学元件的规格以调整为目的。因此,可以根据规格适合于调整成型模具相对位置之目的的第2光学元件的透过波前像差,进行制造第1光学元件的成型模具的相对位置调整,能够高精度调整相对位置。因此,能够提供一种不采用设影响光学性能的凸部等,能够高精度成型第1光学元件的光学元件的制造方法以及光学元件成型模具。

附图说明

图1是成型光学元件的成型模具的示意图。

图2中,(a)是图1所示下模的G-G′位置以及上模的F-F′位置的截面图,在下模中载置玻璃素材的状态。(b)是用下模和上模加压玻璃素材状态的截面示意图。

图3中,(a)是下模、上模相对位置平行偏离的状态示意图。(b)是下模、上模相对位置倾斜偏离的状态部分截面示意图。

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