[发明专利]光学元件的制造方法及光学元件成型模具无效

专利信息
申请号: 201180010278.1 申请日: 2011-02-03
公开(公告)号: CN102781855A 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 小椋和幸;釜田善浩 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达先进多层薄膜株式会社
主分类号: C03B11/16 分类号: C03B11/16;C03B11/00;G01B11/27;G01M11/02;G02B7/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李洋;杨林森
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 元件 制造 方法 成型 模具
【权利要求书】:

1.一种光学元件的制造方法,是采用一对成型模具、其具有成型备有面对面光学面之光学元件的成型面,成型所述光学元件,光学元件制造方法的特征在于,

所述成型模具备有:成型采用该成型模具制造的第1光学元件的成型面;与成型所述第1光学元件之成型面分开的、成型在调整一对所述成型模具的相对位置时使用的第2光学元件的成型面;

具有以下工序:

第1成型工序,采用所述成型模具,成型所述第2光学元件;

测定工序,根据在所述第1成型工序成型的所述第2光学元件的透过波前像差,求所述第2光学元件面对面光学面的相对位置偏离量;

相对位置调整工序,根据由所述测定工序求得的所述相对位置偏离量,调整一对所述成型模具的相对位置;

第2成型工序,采用经所述相对位置调整工序调整了相对位置的所述成型模具,成型所述第1光学元件。

2.如权利要求1中记载的光学元件的制造方法,其特征在于,

平面波或球面波入射到所述第1光学元件及所述第2光学元件上时,各透过波前偏离最接近所述第1光学元件及所述第2光学元件各设计透过波前之球面的偏差量,是所述第2光学元件的小于所述第1光学元件的。

3.如权利要求1中记载的光学元件的制造方法,其特征在于,

所述第2光学元件与所述第1光学元件相比较,相对面对面光学面相对位置偏离量的透过波前像差发生量的比率大。

4.如权利要求1至3的任何一项中记载的光学元件的制造方法,其特征在于,

所述第2光学元件的透过波前像差包括由面对面光学面的平行偏芯、倾斜偏芯的至少一个引起产生的像差。

5.如权利要求1或3中记载的光学元件的制造方法,其特征在于,

所述第2光学元件的透过波前像差包括由于面对面光学面以所述第2光学元件的光轴为轴相对旋转而引起产生的像差。

6.一种光学元件成型模具,其特征在于,

具有在如权利要求1至5的任何一项中记载的光学元件制造方法中使用的所述第1光学元件及所述第2光学元件的成型面。

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