[发明专利]光电转换装置无效

专利信息
申请号: 201180007195.7 申请日: 2011-01-14
公开(公告)号: CN102725856A 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 兼松大二;关本健之;矢田茂郎;寺川朗 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光电 转换 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种光电转换装置。

背景技术

作为利用太阳光的发电系统,使用层叠有非晶或微晶等半导体薄膜的光电转换装置。

图11中表示光电转换装置100的基本构成的剖面示意图。光电转换装置100是在玻璃等透明基板10上层叠透明电极12、光电转换单元14和背面电极16而形成。通过使光从透明基板10侧入射,光电转换装置100利用光电转换单元14中的光电转换产生电力。此处,透明电极12一般用MOCVD法(Metal Organic Chemical Vapor Deposition:有机金属化学气相沉积法)或溅射法而形成(参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2008-277387号公报

发明内容

发明要解决的课题

现有的透明电极12的形成方法是在高密度的成膜条件下形成高电导率·低光吸收率的透明电极12,并且在低密度的成膜条件下形成低电导率·高光吸收率的透明电极12。

进而,为了提高光的利用率,优选在透明电极12的表面形成纹理结构,但存在高电导率·低光吸收率的透明电极12为高密度、纹理结构的加工困难的问题。

本发明提案一种具有良好的特性(高电导率、低光吸收率、高光散射效果)的透明电极,目的在于实现具备该透明电极的光电转换装置的性能的提高。

本发明的一个方式提供一种光电转换装置,其具备:基板;形成于基板上的透明电极层;形成于透明电极层上的光电转换单元;和形成于光电转换单元上的背面电极,其中,透明电极层在光电转换单元侧的表面具有纹理(texture,晶体组织)结构,并且具备:形成于基板侧的第一透明电极层;和第二透明电极层,其位于比第一透明电极层远离基板的位置,且比第一透明电极层密度小。

发明效果

本发明提案一种具有高电导率、低光吸收率、高光散射效果的透明电极,能够实现具备该透明电极的光电转换装置的性能的提高。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式的光电转换装置的构造的剖面图;

图2是表示本发明的实施方式的透明电极层的构造的图;

图3是表示本发明的实施方式的透明电极层的构造的图;

图4是表示本发明的实施方式的透明电极层的构造的图;

图5是表示本发明的实施方式的透明电极层的吸收系数的图;

图6是表示本发明的实施方式的透明电极层的折射率的图;

图7是表示本发明的实施方式的透明电极层的全透射率的图;

图8是表示本发明的实施方式的透明电极层的SIMS(Secondary Ion Mass Spectrometry:二次离子质谱分析)测定结果的图;

图9是表示本发明的实施方式的透明电极层的SIMS测定结果的图;

图10是表示本发明的实施方式的透明电极层的SIMS测定结果的图;

图11是表示现有的光电转换装置的构造的剖面图。

具体实施方式

如图1所示,本实施方式的光电转换装置200具有如下构造,即,以基板20为光入射侧,从光入射侧起层叠有:透明电极层22、作为顶电池具有宽带隙的非晶硅光电转换单元(a-Si单元)202、中间层24、作为底电池带隙比a-Si单元202窄的微晶硅光电转换单元(μc-Si单元)204、第一背面电极层26、第二背面电极层28、填充材料30和背密封板32。

在本实施方式中,作为是发电层的光电转换单元,以层叠有a-Si单元202和μc-Si单元204的串联型光电转换装置为例进行了说明,但本发明的适用范围并非限定于此,也可以为单一型光电转换装置或更多层的光电转换装置。

基板20能够适用例如玻璃基板、塑料基板等至少在可见光波长区域具有透射性的材料。

在基板20上形成有透明电极层22。透明电极层22适合将在氧化锡(SnO2)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锡(ITO)等中掺杂了锡(Sn)、锑(Sb)、氟(F)、铝(Al)等透明导电性氧化物(TCO)之中的至少一种或者多种组合使用。尤其是,氧化锌(ZnO)透光性高、电阻率低,抗等离子体特性也优异,因而优选。

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