[实用新型]晶圆电镀前处理装置有效
申请号: | 201120573824.X | 申请日: | 2011-12-31 |
公开(公告)号: | CN202482460U | 公开(公告)日: | 2012-10-10 |
发明(设计)人: | 王振荣;刘红兵;黄利松 | 申请(专利权)人: | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | C25D7/12 | 分类号: | C25D7/12;C25D5/54 |
代理公司: | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人: | 李强 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电镀 处理 装置 | ||
1.晶圆电镀前处理装置,其特征在于,包括润湿槽和抽真空装置,抽真空装置与润湿槽通过管道连通;润湿槽与储液槽通过进液管和第一回流管连通;所述第一回流管上设置有第一阀门;进液管上设置有第二阀门;润湿槽与抽真空装置之间的管道上设置有第三阀门。
2.根据权利要求1所述的晶圆电镀前处理装置,其特征在于,所述润湿槽与抽真空装置之间的管道上设置有缓冲槽。
3.根据权利要求2所述的晶圆电镀前处理装置,其特征在于,所述缓冲槽与储液槽通过第二回流管连通;第二回流管道上设置有第四阀门。
4.根据权利要求1所述的晶圆电镀前处理装置,其特征在于,所述润湿槽上设置有用于与大气连通的大气管,所述大气管上设置有第五阀门。
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