[实用新型]一种测量硅片几何尺寸的装置有效
申请号: | 201120498717.5 | 申请日: | 2011-12-05 |
公开(公告)号: | CN202361917U | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 杨红;朱泓 | 申请(专利权)人: | 江苏宏宝光电科技有限公司 |
主分类号: | G01B5/02 | 分类号: | G01B5/02 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 215618 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 测量 硅片 几何 尺寸 装置 | ||
1.一种测量硅片几何尺寸的装置,其特征在于:包括钢板(1)和泡沫垫(2);所述钢板(1)的板面尺寸与泡沫垫(2)的垫面尺寸大小相同;所述泡沫垫(2)的垫面与钢板(1)的板面紧密贴合,使泡沫垫(2)固定在钢板(1)上;所述泡沫垫(2)上设有用于放置硅片的凹槽(3);所述凹槽(3)上面的四个角为倒角(4);所述凹槽(3)边缘及其倒角(4)处标有测量对应硅片边长范围和倒角(4)长度范围的刻度。
2.如权利要求1所述的测量硅片几何尺寸的装置,其特征在于:所述钢板(1)的尺寸为240*240*2mm;所述泡沫垫(2)的尺寸为240*240*8mm。
3.如权利要求1或2所述的测量硅片几何尺寸的装置,其特征在于:所述凹槽(3)的尺寸为158*158*0.1mm;所述凹槽(3)四个倒角(4)的长度为3mm。
4.如权利要求3所述的测量硅片几何尺寸的装置,其特征在于:所述凹槽(3)边缘的刻度线以端点0为起点,以1mm为间断线,0.2mm为间断点,边缘的刻度在0-158mm范围内。
5.如权利要求3所述的测量硅片几何尺寸的装置,其特征在于:所述倒角(4)刻度线以端点0为起点,以0.2mm为间断线,0.1mm为间断点,倒角(4)刻度在0-3mm范围内。
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