[实用新型]一种进行晶圆热处理的热板设备有效
申请号: | 201120494160.8 | 申请日: | 2011-12-02 |
公开(公告)号: | CN202473873U | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 程蒙;胡林 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 进行 热处理 设备 | ||
1.一种进行晶圆热处理的热板设备,其特征在于,
所述热板(10)上设置有数量大于3的偶数个垫圈(11),所述垫圈(11)在热板(10)顶面围成一个限位空间(12),该限位空间(12)的形状尺寸与晶圆的形状尺寸相互匹配;在所述晶圆通过机械手臂传送至热板(10)的限位空间(12)进行热处理时,由所述若干垫圈(11)维持所述晶圆与热板(10)之间的间隙;
其中任意两个相对的垫圈(11)在所述热板(10)上的连线,与所述晶圆的传送路径不在同一直线上。
2.如权利要求1所述进行晶圆热处理的热板设备,其特征在于,
所述偶数个垫圈(11)在热板(10)上围成一个圆形的限位空间(12),所有垫圈(11)在该限位空间(12)的周边均匀分布;
所述限位空间(12)上有一直径的位置与所述晶圆的传送路径相对应,所述垫圈(11)在该直径的两边对称布置。
3.如权利要求2所述进行晶圆热处理的热板设备,其特征在于,
所述热板(10)上设置有6个垫圈(11)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造