[实用新型]一种提高MOCVD机台中4寸外延片波长均匀性的石墨盘有效
| 申请号： | 201120462443.4 | 申请日： | 2011-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN202543389U | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 潘尧波;彭昀鹏 | 申请（专利权）人： | 上海蓝光科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 mocvd 机台 外延 波长 均匀 石墨 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高MOCVD机台中4寸外延片波长均匀性的石墨盘，其特征在于：该石墨盘包括底座（202）以及卡持该外延片（201）的圆台（203）；
所述底座（202）包括弧形下凹的圆形底面（2021）以及自该圆形底面边缘弯折延伸的侧壁（2022）；所述圆台（203）自该侧壁（2022）的顶端向外弯折延伸而成。
2.根据权利要求1所述的一种提高MOCVD机台中4寸外延片波长均匀性的石墨盘，其特征在于：所述底座（202）的侧壁（2022）的高度H为80-100μm。
3.根据权利要求1所述的一种提高MOCVD机台中4寸外延片波长均匀性的石墨盘，其特征在于：所述圆形底面（2021）的弧形下凹深度L为20-30μm。
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