[实用新型]晶片贴合装置有效
| 申请号: | 201120461736.0 | 申请日: | 2011-11-18 |
| 公开(公告)号: | CN202384299U | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
| 发明(设计)人: | 石敦智;刘建志;林语尚;谢铭良 | 申请(专利权)人: | 苏州均华精密机械有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00 |
| 代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 马明渡 |
| 地址: | 江苏省苏州市吴中区目渎镇*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 晶片 贴合 装置 | ||
1.一种晶片贴合装置,其应用于将至少一晶粒黏至一基板,其特征在于,该晶片贴合装置包括有:
一机台;
一基板承载装置,其设于该机台的一端,该基板承载装置供该基板设置;
一晶粒供料装置,其设于该机台中,并且相邻于该基板承载装置;
一取放装置,其设于该机台上,该取放装置于该基板承载装置与该晶粒供料装置之间移动;
一用于取像且对位该晶粒供料装置的第一视觉模块,其设于该机台上;以及
一用于垂直取像与对位该基板与该晶粒的第二视觉模块,其设于该机台上,并且位于该基板承载装置的上方。
2.一种晶片贴合装置,其应用于将至少一晶粒黏至一基板,其特征在于,该晶片贴合装置包括有:
一机台;
一基板承载装置,其设于该机台的一端,该基板承载装置供该基板设置;
一晶粒供料装置,其设于该机台中,并且相邻于该基板承载装置;
一能够吸取尺寸0.1毫米至3毫米的晶粒的取放装置,其设于该机台上,该取放装置于该基板承载装置与该晶粒供料装置之间移动;
一用于取像且对位该晶粒供料装置的第一视觉模块,其设于该机台上;以及
一用于垂直取像与对位该基板与该晶粒的第二视觉模块,其设于该机台上,并且位于该基板承载装置的上方。
3.一种晶片贴合装置,其应用于将至少一晶粒黏至一基板,其特征在于,该晶片贴合装置包括有:
一机台;
一基板承载装置,其设于该机台的一端,该基板承载装置供该基板设置;
一晶粒供料装置,其设于该机台中,并且相邻于该基板承载装置;
一取放装置,其设于该机台上,该取放装置于该基板承载装置与该晶粒供料装置之间移动;
一用于取像且对位该晶粒供料装置的第一视觉模块,其设于该机台上;以及
一用于垂直取像与对位该基板与该晶粒,以及能够摄像该晶粒的另一面的第二视觉模块,其设于该机台上,并且位于该基板承载装置的上方。
4.一种晶片贴合装置,其应用于将至少一晶粒黏至一基板,其特征在于,该晶片贴合装置包括有:
一机台;
一基板承载装置,其设于该机台的一端,该基板承载装置供该基板设置;
一晶粒供料装置,其设于该机台中,并且相邻于该基板承载装置;
一能够吸取尺寸0.1毫米至3毫米的晶粒的取放装置,其设于该机台上,该取放装置于该基板承载装置与该晶粒供料装置之间移动;
一用于取像且对位该晶粒供料装置的第一视觉模块,其设于该机台上;以及
一可垂直取像与对位该基板与该晶粒,以及能够摄像该晶粒的另一面的第二视觉模块,其设于该机台上,并且位于该基板承载装置的上方。
5.如权利要求1、2、3或4所述的晶片贴合装置,其特征在于,该取放装置具有一真空吸管,该真空吸管吸取位于该晶粒供料装置的晶粒。
6.如权利要求1、2、3或4所述的晶片贴合装置,其特征在于,进一步具有一基板移动装置,其设于该机台的一端,并且相邻于该基板承载装置。
7.如权利要求6所述的晶片贴合装置,其特征在于,进一步具有一晶舟盒升降装置,其设于该机台的一端,并且相邻于该基板移动装置。
8.如权利要求1、2、3或4所述的晶片贴合装置,其特征在于,进一步具有一点胶模块,其设于该机台,并相邻于该取放装置,该点胶模块具有一动力驱动的点胶杆与一胶盘。
9.如权利要求6所述的晶片贴合装置,其特征在于,该基板移动装置为一动力驱动的取放叉。
10.如权利要求9所述的晶片贴合装置,其特征在于,该基板移动装置具有多个真空吸孔。
11.如权利要求1、2、3或4所述的晶片贴合装置,其特征在于,该基板承载装置具有多个动力驱动的顶柱。
12.如权利要求1、2、3或4所述的晶片贴合装置,其特征在于,该晶粒供料装置具有一晶粒旋转单元,该晶粒旋转单元是将一晶粒旋转一角度。
13.如权利要求12所述的晶片贴合装置,其特征在于,该机台机有一Y轴向,该晶粒供料装置具有一晶粒Y轴移动单元,该晶粒Y轴移动单元将该晶粒沿着该Y轴向移动一距离。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





