[实用新型]多晶硅还原炉喷嘴有效

专利信息
申请号: 201120368637.8 申请日: 2011-09-30
公开(公告)号: CN202246083U 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 陶刚义 申请(专利权)人: 江西晶大半导体材料有限公司
主分类号: C01B33/021 分类号: C01B33/021
代理公司: 南昌市平凡知识产权代理事务所 36122 代理人: 徐光熙
地址: 330115 江*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多晶 还原 喷嘴
【说明书】:

技术领域

  本实用新型涉及一种多晶硅还原炉喷嘴,适用于多晶硅行业还原炉进料。

背景技术

目前,多晶硅行业还原炉因进料不均匀、不稳定,易出现倒棒、硅粉沉积不平衡等现象,给企业造成不小的经济损失。因此,进料口的改进势在必行。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种新型还原炉进料喷嘴装置。本实用新型包括、喷头、外套筒、炉底盘、螺旋式进气口与喷嘴丝口。

炉底盘上焊接喷嘴底坐,喷嘴与喷嘴底坐螺丝连接,喷头置于外套筒中间上端,螺旋式进气口与喷嘴丝口沿外套筒螺旋式设置。

本实用新型的有益效果是:保证了喷出混合气的流量、气流速度,合理分布炉内混合气,增强混合气的拢动,降低夹层之间的温度,提高沉积速度,使多晶硅产品外观平整,喷嘴可拆卸,维修方便,可根据工艺需要进行调整。

附图说明

附图1是本实用新型的结构纵向剖面示意图;

图中1、喷头,2、外套筒,3、炉底盘,4、螺旋式进气口与喷嘴丝口。

具体实施方式

    多晶硅还原炉喷嘴由喷头、外套筒、炉底盘、螺旋式进气口与喷嘴丝口组成。炉底盘上焊接喷嘴底坐,喷嘴与喷嘴底坐螺丝连接,喷头置于外套筒中间上端,螺旋式进气口与喷嘴丝口沿外套筒螺旋式设置。进气管、外套筒和喷头形成的口径递减式的气流通道,使工作气体能达到指定的高度,螺旋式进气口与喷嘴丝口的设置,使得气体流速降低,既保证了硅棒下端的气流更新又不会对硅棒下端造成冲击,提高了多晶硅的生产效率和产品质量。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西晶大半导体材料有限公司,未经江西晶大半导体材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120368637.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top