[实用新型]轴瓦半径高和平行度自动检测装置有效
申请号: | 201120319204.3 | 申请日: | 2011-08-29 |
公开(公告)号: | CN202204501U | 公开(公告)日: | 2012-04-25 |
发明(设计)人: | 郭祥振;李芳;檀学莹 | 申请(专利权)人: | 机科发展科技股份有限公司 |
主分类号: | G01B21/10 | 分类号: | G01B21/10;G01B21/22 |
代理公司: | 北京纽乐康知识产权代理事务所 11210 | 代理人: | 唐忠庆 |
地址: | 100044*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 轴瓦 半径 平行 自动检测 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种轴瓦半径高和平行度自动检测装置。
背景技术
现阶段汽车工业的迅速发展推动了汽车零部件业的发展。轴瓦是汽车的核心--发动机总成中的一个重要零件,其质量对于整车的质量和使用寿命有着重要影响。目前,国内大多数轴瓦厂家使用人工检测的方法,检测精度不高,效率较低。在大规模生产条件下,提高质量,节约能源是各生产厂家的首要大事,这就要求检测水平的提高,便于及时发现影响产品质量的因素。因而,开发轴瓦半径高和平行度自动检测装置势在必行。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种轴瓦半径高和平行度自动检测装置,采用双摆动压板结构对轴瓦半径高检测,真实可靠检测出轴瓦每个对口面的平行度偏差,并能判明平行度偏差类型以及超差部分,使用电动直线推杆或气液增力缸实现精密施力,精密定位装置。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现:
一种轴瓦半径高和平行度自动检测装置,包括机座,所述机座的顶面靠近左端处设有顶升脱离检验模机构,顶升脱离检验模机构的右侧设有轴瓦检验模具,轴瓦检验模具的右侧设有两个双摆动压板机构,两个双摆动压板机构与轴瓦检验模具之间固定轴瓦,双摆动压板机构的顶面、底面以及外侧分别设有三个高精度位移传感器,其中位于双摆动压板机构顶面和底面的两个高精度位移传感器为平行度监测传感器,位于双摆动压板机构外侧的高精度位移传感器为半径高监测传感器,双摆动压板机构的右侧设有压力传感器,压力传感器的右侧设有施力机构。
本实用新型的有益效果为:本实用新型能以3-5s/件的高效率、±1.2μm的重复测量精度检测轴瓦半径高出度数值,节约人力成本,大幅调高检测效率和检测精度,并且在检测中不会对工件造成任何划伤或者压痕。
附图说明
下面根据附图对本实用新型作进一步详细说明。
图1是本实用新型实施例所述的轴瓦半径高和平行度自动检测装置主视图;
图2是本实用新型实施例所述的轴瓦半径高和平行度自动检测装置俯视图;
图3是图1中双摆动压板机构的主视图;
图4是图1中双摆动压板机构的俯视图。
图中:
1、机座;2、顶升脱离检验模机构;3、轴瓦检验模具;4、双摆动压板机构;5、轴瓦;6、高精度位移传感器;7、平行度检测传感器;8、半径高检测传感器;9、压力传感器;10施力机构。
具体实施方式
如图1-4所示,本实用新型实施例所述的一种轴瓦半径高和平行度自动检测装置,包括机座1,所述机座1的顶面靠近左端处设有顶升脱离检验模机构2,顶升脱离检验模机构2的右侧设有轴瓦检验模具3,轴瓦检验模具3的右侧设有两个双摆动压板机构4,两个双摆动压板机构4与轴瓦检验模具3之间固定轴瓦5,双摆动压板机构4的顶面、底面以及外侧分别设有三个高精度位移传感器6,其中位于双摆动压板机构4顶面和底面的两个高精度位移传感器6为平行度检测传感器7,位于双摆动压板机构4外侧的高精度位移传感器6为半径高检测传感器8,双摆动压板机构4的右侧设有压力传感器9,压力传感器9的右侧设有施力机构10。
顶升脱离检验模机构2是气动系统中加入柔性环节,在测量结束时推出轴瓦5,且不损伤轴瓦。严格控制轴瓦检验模具3的加工精度,并且保证主测量机构刚度良好并被精确地导向,以相对于检验模的基准平面做平行移动。检验模的精度要求:上下表面平面度要求在2微米以内,且上下表面平行度要求在2微米以内。轴瓦检验模具3的材料必须是淬硬钢,并具有足够的刚性,以确保轴瓦在加载状态下检验时满足所规定的精度要求。双摆动压板机构4实现双面加载法,更能真实可靠的进行高出度的检测。采用弹性变形体与摆动压板相连接,在轴瓦5对口面两端各设计一套双摆动压板机构4。在设计过程中,充分考虑检验载荷的偏差,加载速度,传感器的精度,选用高精度的压力传感器9,六路高精度位移传感器6。
测量过程中,两路半径高检测传感器8进行半径高的测量,另外四路传平行度检测传感器7进行平行度的检测。同时经过多次实验,轴瓦半圆周长高出度的检测重复精度可达到±1.2μm。
本实用新型不局限于上述最佳实施方式,任何人在本实用新型的启示下都可得出其他各种形式的产品,但不论在其形状或结构上作任何变化,凡是具有与本申请相同或相近似的技术方案,均落在本实用新型的保护范围之内。
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