[实用新型]光罩清洁装置

权利要求书

1.一种光罩清洁装置，其特征在于，包括：

一框架；

一水平位移组，是位于该框架的上侧，由一对传输轨道所形成；

一清洗夹头组，是位于该水平位移组上方，与该水平位移组的两端枢接；

一清洁区，是位于该水平位移组所形成该传输轨道中，其是由该清洁区一侧的湿式清洁区，及相对另一侧的干式清洁区所组成；

一点胶机，是位于该清洁区下方，用于控制该清洁区中该湿式清洁区的出水量；

一光罩升降组，是位于该框架的一侧边，并是采用机械作动方式升降。

2.如权利要求1所述的光罩清洁装置，其特征在于，该清洁区中的该湿式清洁区，是由二湿制程单元所组成。

3.如权利要求2所述的光罩清洁装置，其特征在于，该湿制程单元是由一出水头、一擦拭布及一排水装置所组成，且该二湿制程单元是呈相对方向配置。

4.如权利要求1所述的光罩清洁装置，其特征在于，该清洁区中的该干式清洁区，是由二干制程单元所组成。

5.如权利要求4所述的光罩清洁装置，其特征在于，该二干制程单元是由一擦拭布、及一排水装置所组成，且该二干制程单元是呈相对方向配置。

6.如权利要求3或5所述的光罩清洁装置，其特征在于，该擦拭布是由下列组合中选出：自具吸收性、且不产生微粒或纤维剥落的无尘布或无尘纸。

7.如权利要求3或5所述的光罩清洁装置，其特征在于，该擦拭布是采用上下框互相卡合方式将其绷紧安置，维持于光罩清洁过程中擦拭布的张力。

8.如权利要求3所述的光罩清洁装置，其特征在于，该出水头出水量是由该点胶机控制每次光罩清洁使用的去离子水出水量。

9.如权利要求3或5所述的光罩清洁装置，其特征在于，该排水装置可配置于该湿式清洁区中，采用吸收或排除水分方式，将过多水分去除，且于去除水分时可同时进行抽气作用，避免水滴渗进光罩图形区。