[实用新型]一种低辐射镀膜玻璃有效
| 申请号： | 201120256900.4 | 申请日： | 2011-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN202170300U | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 李艺明;尚贵才 | 申请（专利权）人： | 福耀玻璃工业集团股份有限公司;福建省万达汽车玻璃工业有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 350301 福建省福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 镀膜 玻璃 | ||
1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层，其特征在于：该玻璃膜层结构依次为：玻璃基板、TiO2:Zr膜层、第一电介质膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护层。
2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述TiO2:Zr膜层厚度为5～20nm。
3.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层，其特征在于：该玻璃膜层结构依次为：玻璃基板、TiO2:Zr膜层、第一电介质膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、第二电介质膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护层。
4.根据权利要求3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述TiO2:Zr膜层厚度为5～20nm。
5.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层，其特征在于：该玻璃膜层结构依次为：玻璃基板、TiO2:Zr膜层、第一电介质膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、第二电介质膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、第三电介质膜层、Ag膜层、第三牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护层。
6.根据权利要求5所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述TiO2:Zr膜层厚度为5～20nm。
7.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层，其特征在于：该玻璃膜层结构依次为：玻璃基板、TiO2:Zr膜层、第一电介质膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、第二电介质膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、第三电介质膜层、Ag膜层、第三牺牲膜层、第四电介质膜层、Ag膜层、第四牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护层。
8.根据权利要求7所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述TiO2:Zr膜层厚度为5～20nm。
9.根据权利要求1-8之一所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：第一电介质膜层、第二电介质膜层、第三电介质膜层、第四电介质膜层、顶层电介质膜层和保护膜层选用以下的一种材料：SnOx、TiOx、ZnOx、SiNx、ZnxSnyOn、ZnxTiyOn、ZrOx、NbOx、SiNOx，其膜层厚度为5～90nm；第一牺牲层、第二牺牲层、第三牺牲层和第四牺牲层选用以下的一种材料：NiCr、Ti、Nb、NiCrOx、Sb，其膜层厚度为1～5nm。
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