[实用新型]一种晶体硅太阳电池无效

专利信息
申请号: 201120232467.0 申请日: 2011-07-04
公开(公告)号: CN202120925U 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 黄钦;王平;李晓华 申请(专利权)人: 常州盛世电子技术有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/0352
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 金辉
地址: 213144 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 晶体 太阳电池
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及太阳能电池技术领域,特别涉及一种晶体硅太阳电池。

背景技术

太阳能电池是通过光电效应或者光化学效应直接把光能转化成电能的装置。太阳能电池作为绿色能源,越来越受到人们的关注。太阳能电池制造过程中,一般将导电浆料丝网印刷在电池片的正负表面上形成电极,利用电极将电池片的电能导出。目前,传统工艺要用二次烧结才能形成良好的带有金属电极欧姆接触,且传统工艺的太阳能电池成本高、转换效率低。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服现有技术存在的缺陷,提供一种节省浆料、转换效率高的晶体硅太阳电池。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种晶体硅太阳电池,由减反射膜、N型硅、PN结、P型硅依次复合而成。

上述技术方案所述减反射膜的表面上设置有网版图形印刷形成的上电极。

上述技术方案所述上电极包括2根纵向对称的主栅和54根横向等距分布的副栅。

上述技术方案所述P型硅的下表面上设置有网版图形印刷形成的下电极。

上述技术方案所述下电极包括背电场和3组成对的背电极。

本实用新型的有益效果:

(1)本实用新型采用PECVD沉积氮化硅膜作为太阳电池的减反射膜,主要作用是减少光的反射,而且氮化硅膜含有大量的氢,可以很好的钝化硅中的表面悬挂键,从而提高了载流子迁移率;密集均匀的绒面可增加光的吸收面积,提高单晶硅太阳电池的短路电流,从而提高太阳能电池的光电转换效率。

(2)本实用新型应用银铝浆料制作电极和背电场,优化图形设计,不仅确保了电极良好的导电性、可焊性以及背电场的平整性,更具有优异的印刷性能、附着力高、弯曲度低和转换效率高的优点。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

图1是本实用新型的层状结构示意图。

图2是本实用新型的上电极的结构示意图。

图3是本实用新型的下电极的结构示意图。

图中1.上电极,11.主栅,12.副栅,2.减反射膜,3.N型硅,4.PN结,5.P型硅,6.下电极,61.背电极,62.背电场。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型进行进一步描述。

如图1-3所示的一种晶体硅太阳电池,由减反射膜2、N型硅3、PN结4、P型硅5依次复合而成,减反射膜2的表面上设置有网版图形印刷形成的上电极1,上电极1包括2根纵向对称的主栅11和54根横向等距分布的副栅12,P型硅5的下表面上设置有网版图形印刷形成的下电极6,下电极6包括背电场62和3组成对的背电极61。

应当理解,以上所描述的具体实施例仅用于解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。由本实用新型的精神所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型的保护范围之中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州盛世电子技术有限公司,未经常州盛世电子技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120232467.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top