[实用新型]二极管酸洗脱水设备无效
| 申请号： | 201120224335.3 | 申请日： | 2011-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN202103029U | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | 徐谦;李伟;戴亮;庄娟梅 | 申请（专利权）人： | 常州佳讯光电产业发展有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01L21/329 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人： | 何学成 |
| 地址： | 213022 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二极管 酸洗 脱水 设备 | ||
【权利要求书】：
1.二极管酸洗脱水设备，其特征在于：包括依次连接的化学酸洗段、水超声清洗段、烘干段、冷却段、1号异丙醇缸和2号异丙醇缸，所述的烘干段设置有紫外灯和温度开关，所述的紫外灯与温度开关相连接；所述的冷却段设置有风扇和风速调节开关，所述的风扇与风速调节开关相连接。
2.根据权利要求1所述的二极管酸洗脱水设备，其特征在于：所述的烘干段，其长度为1～2m。
3.根据权利要求1所述的二极管酸洗脱水设备，其特征在于：所述的冷却段，其长度为1米。
4.根据权利要求1所述的二极管酸洗脱水设备，其特征在于：所述的1号异丙醇缸与2号异丙醇缸的总长度为2～2.5米。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
