[实用新型]等离子辅助化学气相沉积设备有效
申请号: | 201120201024.5 | 申请日: | 2011-06-15 |
公开(公告)号: | CN202279857U | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 杨利坚;高松年;卢伟贤;庄一鸣;易敏龙 | 申请(专利权)人: | 香港生产力促进局 |
主分类号: | C23C16/509 | 分类号: | C23C16/509 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 程殿军 |
地址: | 中国香港九龙达之路*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 辅助 化学 沉积 设备 | ||
技术领域
本实用新型有关一种气相沉积设备,特别是指一种能用于等离子表面改性的真空式等离子辅助化学气相沉积设备。
背景技术
等离子辅助气相沉积技术主管是利用低温等离子体,在真空的环境下,加入适当的反应气体,通过电能激发辉光放电,使等离子体产生化学反应,从而在固体表面形成固态薄膜,较常见为金属的氧化膜或氮化膜。
如今消费者对产品表面的功能性的要求越来越高,制作有防指纹(疏水)、防雾(亲水)、防静电等功能的表面处理技术的需求日益增加。目前工业界现有的表面处理技术上,只有溶胶凝胶型的涂料的成效比较显著。可惜,溶胶凝胶型的涂料的生产普遍会释放出化学废液,不符合当今的环保理念。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型的主要目的在于提供一种能对样品进行表面改性并符合环保要求的等离子辅助化学气相沉积设备。
为达到上述目的,本实用新型提供一种等离子辅助化学气相沉积设备,其包括有化学气相沉积真空室,该化学气相沉积真空室通过法兰连接有真空系统,所述化学气相沉积真空室的两侧室壁各设有相对的能产生等离子体、且能通过调控磁铁分布调控磁场以改变等离子体强度与分布的可调式磁控等离子源平板电极,该等离子源平板电极连接有中频电源,所述化学气相沉积真空室顶部设有二维工件转台。
所述等离子源平板电极包括有电极板及导电棒,所述化学气相沉积真空室的室壁上设有通孔,所述导电棒通过一连接器穿设于该通孔,位于所述化学气相沉积真空室内部的所述导电棒的一端连接所述电极板,位于所述化学气相沉积真空室外部的所述导电棒的一端为电源接口,连接有所述中频电源。
位于所述化学气相沉积真空室外部的所述导电棒上套设有凸字状的夹持件,该夹持件并套设于所述连接器上,所述连接器与所述夹持件之间还设有绝缘垫片,环绕凸字状的所述夹持件的上部还设有盖板,该盖板通过螺钉与所述化学气相沉积真空室的室壁之间固定。
所述化学气相沉积真空室对应所述电极板的室壁处设有三排并行排列、且能改变所述等离子体强度与分布的钕硼铁磁铁,该钕硼铁磁铁以N极-S极-N极或S极-N极-S极的方式排列。
所述真空系统包括有以串联方式相连的机械旋片泵和罗茨泵,该罗茨泵通过一气动阀连接至所述化学气相沉积真空室。
所述化学气相沉积真空室设有真空规、质量流量计及充气阀。
所述化学气相沉积真空室正面设有玻璃观景窗。
使用本实用新型等离子辅助化学气相沉积设备进行的表面改性工艺不涉及任何废水的产生及排放,符合环保的生产原则。表面改性工艺可赋予样品表面附加功能,如防指纹、防雾、防静电等,提高产品的附加价值。
附图说明
图1为本实用新型等离子辅助化学气相沉积设备结构示意图;
图2为本实用新型中的化学气相沉积真空室的俯视图;
图3为本实用新型中的化学气相沉积真空室的底部示意图;
图4为本实用新型等离子辅助化学气相沉积设备的侧面示意图;
图5为本实用新型中的等离子源平板电极与化学气相沉积真空室的组装截面图;
图6为沿图5中A-A线方向的组装结构示意图。
具体实施方式
为便于对本实用新型的结构及达到的效果有进一步的了解,现配合附图并举较佳实例详细说明如下。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的