[实用新型]等离子辅助化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种等离子辅助化学气相沉积设备，其特征在于，其包括有化学气相沉积真空室，该化学气相沉积真空室通过法兰连接有真空系统，所述化学气相沉积真空室的两侧室壁各设有相对的能产生等离子体、且能通过调控磁铁分布调控磁场以改变等离子体强度与分布的可调式磁控等离子源平板电极，该等离子源平板电极连接有中频电源，所述化学气相沉积真空室顶部设有二维工件转台。

2.如权利要求1所述的等离子辅助化学气相沉积设备，其特征在于，所述等离子源平板电极包括有电极板及导电棒，所述化学气相沉积真空室的室壁上设有通孔，所述导电棒通过一连接器穿设于该通孔，位于所述化学气相沉积真空室内部的所述导电棒的一端连接所述电极板，位于所述化学气相沉积真空室外部的所述导电棒的一端为电源接口，连接有所述中频电源。

3.如权利要求2所述的等离子辅助化学气相沉积设备，其特征在于，位于所述化学气相沉积真空室外部的所述导电棒上套设有凸字状的夹持件，该夹持件并套设于所述连接器上，所述连接器与所述夹持件之间还设有绝缘垫片，环绕凸字状的所述夹持件的上部还设有盖板，该盖板通过螺钉与所述化学气相沉积真空室的室壁之间固定。

4.如权利要求3所述的等离子辅助化学气相沉积设备，其特征在于，所述化学气相沉积真空室对应所述电极板的室壁处设有三排并行排列、且能改变所述等离子体强度与分布的钕硼铁磁铁，该钕硼铁磁铁以N极-S极-N极或S极-N极-S极的方式排列。

5.如权利要求1所述的等离子辅助化学气相沉积设备，其特征在于，所述真空系统包括有以串联方式相连的机械旋片泵和罗茨泵，该罗茨泵通过一气动阀连接至所述化学气相沉积真空室。

6.如权利要求1所述的等离子辅助化学气相沉积设备，其特征在于，所述化学气相沉积真空室设有真空规、质量流量计及充气阀。

7.如权利要求1所述的等离子辅助化学气相沉积设备，其特征在于，所述化学气相沉积真空室正面设有玻璃观景窗。