[实用新型]一种液晶显示器用掩膜板有效
| 申请号： | 201120156190.8 | 申请日： | 2011-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN202177777U | 公开（公告）日： | 2012-03-28 |
| 发明（设计）人： | 张锋;吕敬;戴天明;姚琪 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 程立民;张颖玲 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 液晶显示 器用 掩膜板 | ||
1.一种液晶显示器用掩膜板，其特征在于，
掩膜板两个曝光区域之间的交界线位于子像素的像素区内。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，
所述掩膜板两个曝光区域之间包含交界区域，所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线之间的中心点的距离之和(L1+L2)等于每个子像素在横向或纵向的宽度。
3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述交界区域完全不透光，用于对曝光区域边界外不需要曝光的区域进行保护。
4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，
所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线或栅线之间的中心点的距离相等，即L1和L2相等。
5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，
所述掩膜板两个曝光区域之间包含交界区域，所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线之间的中心点的距离之和(L1+L2)大于每个子像素在横向或纵向的宽度。
6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述交界区域完全不透光，用于对曝光区域边界外不需要曝光的区域进行保护。
7.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，
所述交界区域的与数据线相邻的两条边分别到所述交界区域两侧的两根数据线之间的中心点的距离相等，即L1和L2相等。
8.根据权利要求1至7任一项所述的掩膜板，其特征在于，在所述曝光区域中至少两相邻的子像素的像素区之间设置有两根数据线或两根栅线。
9.根据权利要求8所述的掩膜板，其特征在于，所述两根数据线或两根栅线彼此相平行。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
