[实用新型]一种污水处理综合处理池有效
| 申请号： | 201120144519.9 | 申请日： | 2011-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN202030619U | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 王治国;王建永 | 申请（专利权）人： | 中核第四研究设计工程有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/14 | 分类号： | C02F9/14 |
| 代理公司： | 核工业专利中心 11007 | 代理人： | 王朋 |
| 地址： | 050021 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 污水处理 综合 处理 | ||
1.一种污水处理综合处理池，其特征在于：它包括厌氧区、曝气区、沉淀区、稳定区和污泥回流槽；其中，厌氧区为一剖面为倒置梯形的长方体，在其内部沿综合处理池短边方向设置有第一道导流墙，导流墙长度小于综合处理池池宽。
2.根据权利要求1所述的污水处理综合处理池，其特征在于：所述的第一道导流墙的长度为综合处理池池宽的1/2。
3.根据权利要求1所述的污水处理综合处理池，其特征在于：在厌氧区的右侧设置有与综合处理池池宽相同的第二道导流墙，在第二道导流墙距两端的1/8处各开有水流洞，水流洞洞底距池底0.5m。
4.根据权利要求1所述的污水处理综合处理池，其特征在于：所述的曝气区为长方体状，位于厌氧区右侧，与厌氧区通过第二道导流墙连接，在曝气区右侧设置有与池宽相同的第三道导流墙，在第三道导流墙上开有水流洞。
5.根据权利要求4所述的污水处理综合处理池，其特征在于：在第三道导流墙上开有一排洞尺寸为1000×300mm，间隔0.5m的水流洞，水流洞洞顶距水面0.5m。
6.根据权利要求1所述的污水处理综合处理池，其特征在于：所述的沉淀区为长方体状，它位于曝气区右侧，与曝气区通过第三道导流墙连接，在沉淀区右侧设置有与池宽相同的第四道导流墙，在第四道导流墙上开有水流洞。
7.根据权利要求6所述的污水处理综合处理池，其特征在于：在第四道导流墙上开有一排洞尺寸为1000×300mm，间隔0.5m的水流洞，水流洞洞顶距水面0.5m。
8.根据权利要求1所述的污水处理综合处理池，其特征在于：所述的污泥回流槽(5)为“L”形，污泥回流槽的长边位于厌氧区和曝气区短边一侧，短边位于第四道导流墙左侧。
9.根据权利要求1所述的污水处理综合处理池，其特征在于：所述的稳定区为长方体状，它位于沉淀区右侧，通过第四道导流墙与沉淀区连接，在稳定区右侧设有三角堰。
10.根据权利要求1或9所述的污水处理综合处理池，其特征在于：所述的稳定区池深为1.2m。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中核第四研究设计工程有限公司，未经中核第四研究设计工程有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120144519.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
