[实用新型]压强流量控制仪

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种控制仪，尤其涉及一种用于控制气体的压强及流量的压强流量控制仪。 

背景技术

在进行真空镀膜时，有些镀膜材料在镀膜过程中需要充入气体(如氧气)，使得压强达到某一的稳定值(例如：在压强1x10^-3Pa时，充入氧气，使压强达到1x10^-2Pa)，然而在镀膜时，抽真空系统还在工作，镀膜材料或基片会发生放气现象从而造成压强的变化，这时就需要有压强控制仪来控制充气量来保持压强的稳定。 

现有的压强控制仪一般采用电离计和压电阀配合，通过仪器面板设置控制压强，充气时，压强控制仪比较测量值和设置值，根据它们之间的差值控制压电阀的开闭或气量，直至测量值等于设置值。 

然而，现有的压强控制仪存在以下不足之处： 

1、只能够测量压强值，不能测量充气的质量流量，因此，用户不能够得知压强稳定时的实际充气量； 

2、用户不能够改变控制参数或者只有简单的“响应速度”调整，难以适应不同的真空系统； 

3、对于某些需要控制充气流量而不需要控制压强的场合，需要另外配置质量流量计来测量气体的流量。 

实用新型内容

本实用新型实施例提供了一种能够通过控制气体的质量流量值来控制压强大小以及能够适应不同的真空系统的流量控制仪。 

本实用新型实施例提供一种压强流量控制仪，其包括：逻辑运算控制单元、规管、规管放大电路、质量流量计以及显示元件； 

所述逻辑运算控制单元与所述质量流量计连接，所述逻辑运算控制单元 用于控制流过所述质量流量计内的气体的流量； 

所述规管通过规管放大电路与所述逻辑运算控制单元连接，所述规管用于测量真空压强； 

所述显示元件与所述逻辑运算控制单元连接，所述显示元件用于显示显示真空压强值以及质量流量值。 

本实用新型不但能够通过所述质量流量计控制和测量气体的质量流量值，而且能够通过所述逻辑运算控制单元控制流过所述质量流量计内的气体的流量来控制压强的大小，从而使得压强保持稳定。 

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本实用新型的不当限定，在附图中： 

图1为本实用新型压强流量控制仪的结构示意图。 

具体实施方式

下面将结合附图以及具体实施例来详细说明本实用新型，在此本实用新型的示意性实施例以及说明用来解释本实用新型，但并不作为对本实用新型的限定。 

本实用新型提供一种压强流量控制仪，其包括：逻辑运算控制单元1(MCU)、规管2、规管放大电路3、显示元件4、PWM直流变换电路5、质量流量计6、继电器组7、键盘8以及外部控制设备9。 

所述逻辑运算控制单元1为微控制器(MCU)，所述逻辑运算控制单元1中具有PID控制模块(未图示)以及存储器(未图示)，所述存储器(未图示)中存储有几组压强控制值以及流量控制值；所述PID控制模块(未图示)用于控制流过所述质量流量计6内的气体的流量。在其它实施例中，可以在逻辑运算控制单元1中安装控制软件来控制气体的流量。 

所述规管2通过所述规管放大电路3与所述逻辑运算控制单元1连接，所述规管2用于测量真空压强。所述规管2测量出来的真空压强信号经过规管2放大 电路作放大处理后，再输入到逻辑运算控制单元1的第一A/D端口11，逻辑运算控制单元1接收到真空压强信号后，进行运算处理，然后通过显示元件4显示出当前的压强值。 

所述显示元件4与所述逻辑运算控制单元1连接，所述显示元件4由几组数码管组成，用来显示真空压强值和质量流量值以及控制状态。在其它实施例中，可以采用液晶或其他显示方式。 

所述PWM直流变换电路5的一端与逻辑运算控制单元1的PWM端口12连接，另一端与质量流量计6的流量控制端口61连接。 

所述质量流量计6具有所述流量控制端口61、与所述逻辑运算控制单元1的第二A/D端口13连接的流量反馈端口62、气体进口63以及气体出口64，其中，气体可通过所述气体进口63进入到质量流量计6内并经气体出口64流出。 

所述继电器组7与所述逻辑运算控制单元1连接，若用户需要普通真空计的功能，可以分别设置某个继电器在达到设定的压强时闭合或断开。 

所述键盘8与所述逻辑运算控制单元1连接，所述键盘8用来输入数据和控制指令。