[实用新型]直立式基板湿制程浸泡装置

说明书

技术领域

本实用新型关于一种可对基板表面均匀地进行加工的直立式基板湿制程浸泡装置。

背景技术

应用在电路板、玻璃基板或晶元等基板上，利用化学药液对该等基板进行加工的基板湿制程加工作业，包含利用显影剂在一基板上显示出预设电路的保护层、利用蚀刻液对该基板上未设有保护层的铜箔部位进行蚀刻，使该基板上的铜箔呈现出电路的图样、以及利用清洗液洗净该基板上的蚀刻液...等，可使预设的电路形成在基板表面，以利后续元件的装配及电性连接。

其中，以利用蚀刻液对基板进行蚀刻的步骤为例，为了避免因为蚀刻液聚积在基板上而造成过蚀现象，其中一种现有技术所采用的方式是将该基板以直立的方式输送进入一蚀刻槽中，利用该蚀刻槽内设置于基板两侧的喷管来对该基板喷洒蚀刻液，由于该基板采直立方式移动，因此蚀刻液会自然地向下流动而蓄积于该蚀刻槽中，藉此解决蚀刻液会聚积于基板上的问题。

然而，也由于该蚀刻液会向下流动的特性，使得当喷管同时对基板上的各部位同时喷洒蚀刻液，而喷洒于基板上侧的蚀刻液进一步向下流动时，往往会造成靠近基板下侧的线路产生过蚀的现象，故现有技术的以直立方式来对基板进行湿制程的装置仍有待进一步改良的处。

实用新型内容

有鉴于前述现有技术所存在的问题，本实用新型提供一种直立式基板湿制程浸泡装置，希藉此设计解决在现有技术的直立式基板湿制程加工装置中对基板直接喷洒化学药液，会使该基板下侧的线路产生过蚀现象的缺点。

为了达到上述的实用新型目的，本实用新型所利用的技术手段使一直立式基板湿制程浸泡装置包括：

一主箱体，其两相对侧分别形成一入口及一出口，该主箱体的中段处设有一加工槽，该加工槽底侧设有一与该加工槽相连通的集液槽，另于该主箱体上设有二承架，该承架横向架设于该主箱体的入口与出口之间，且分别位于靠近该主箱体的顶部及底部处；

一输送轮组，其架设于该主箱体的二承架上，该输送轮组包括复数个传动轮轴以及复数个调整轮轴，该传动轮轴与调整轮轴可转动地垂直架设于该二承架之间，且间隔排列设置于该主箱体的入口与出口间，传动轮轴与调整轮轴的两端分别穿设于该二承架，且每一调整轮轴对应一传动轮轴；以及

二喷流组件，其设于该主箱体的加工槽中，且分别位于该传动轮轴与调整轮轴的两侧，每一喷流组件包含一外侧板、一内侧板与二挡水板，该外侧板与内侧板间隔设置，该外侧板与内侧板之间在周缘处形成封闭并相互结合，二者之间形成一分流空间，又，该外侧板上设有至少一输液管，该输液管的一端与该分流空间相连通，另一端经由一汲液装置与该集液槽相连通，该内侧板面对该传动轮轴与调整轮轴，该内侧板上密布有复数个喷流孔，该挡水板具弹性，其分别沿纵向固设于该相结合之外、内侧板的两侧，且分别贴靠于相对应的传动轮轴与调整轮轴上。

上述输送轮组可进一步包括一驱动轴，该驱动轴可转动地横向架设于该主箱体的入口与出口之间，且位于其中一承架的旁侧，该驱动轴上间隔设有复数个蜗杆部，该驱动轴的一端连接一马达，该马达可带动该驱动轴转动，上述每一传动轮轴上靠近端部处可套设有一输入齿轮与一输出齿轮，各传动轮轴的输入齿轮分别对应并与该驱动轴的蜗杆部啮合相接，上述每一调整轮轴上靠近端部处可设有一传动齿轮，各调整轮轴的传动齿轮分别对应并与该传动轮轴的输出齿轮啮合相接。

上述每一承架上可间隔穿设有复数个滑移槽，该滑移槽贯穿该承架的一侧边而形成有一开口，每一滑移槽的长轴延伸方向与该主箱体的入口与出口的连线方向垂直；

上述输送轮组可进一步包括复数个滑移块，该滑移块可移动但不可转动地分别设置于该二承架的滑移槽间，且位于靠该滑移槽的开口端的一侧，上述传动轮轴的两端分别枢设于该承架上且位于相对应的滑移槽中，上述调整轮轴的两端分别枢设于该滑移块；

上述直立式基板湿制程浸泡装置可进一步包括二弹性推顶组件，该弹性推顶组件分别设于该承架的旁侧，每一弹性推顶组件包含至少一挡块、复数固定杆与复数推移杆，该挡块设于该承架的一侧，且对应该滑移槽的开口，该固定杆的两端分别与该挡块及承架相互固接，该推移杆的两端分别与该挡块及滑移块相互固接，每一推移杆上套设有一弹簧，弹簧的两端分别抵顶于该挡块以及该滑移块。

上述输送轮组可进一步包括复数个输送轮，该输送轮可转动地间隔设置于靠近主箱体底部的承架上，并突伸至该传动轮轴与调整轮轴之间，该输送轮的轴向与该主箱体的入口与出口的连线方向以及该传动轮轴的轴向均呈相互垂直。

上述输送轮组的每一输送轮上可环绕成型有一限位槽。