[实用新型]镀膜机真空室温度自动控制装置及真空镀膜机无效
申请号: | 201120055634.9 | 申请日: | 2011-03-04 |
公开(公告)号: | CN201981256U | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 郑刚良;苗苗;杜庆荣;安琪;张金伶 | 申请(专利权)人: | 北京无线电计量测试研究所 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;G05D23/24 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 王德桢 |
地址: | 100854 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 真空 温度 自动控制 装置 真空镀膜 | ||
技术领域
本发明涉及真空镀膜机领域,更具体地涉及一种能用于真空镀膜机的真空室温度自动控制装置。
背景技术
在薄膜制备技术中,薄膜的附着力决定着薄膜质量的好坏。要制备附着力好的薄膜需要在镀膜前对基片进行加热和镀膜后对镀件进行老化,而且针对不同的镀膜材料,对基片进行加热或对薄膜进行老化的温度是不同的,需要根据镀膜材料的性能进行精确设定,这就要求镀膜机能够控制真空室加热及烘烤的温度。目前,国内镀膜机的真空室加热及烘烤没有自动温度控制功能。在镀膜前对基片进行加热或镀膜后对镀件进行老化时,镀膜机的真空室加热及烘烤温度无法控制,需要另外配备专用或常规真空烘烤装置来进行镀件老化,这样不仅增加成本而且操作复杂,且镀件在二次转移过程中例如在由真空状态到自然空气状态时可能会发生氧化,从而会影响镀件的质量。
因此,需要一种具有温度自动控制功能的真空镀膜机,以便能够控制真空室加热及烘烤温度达到并保持所设定的温度值,保证在需要的温度下进行基片加热和镀件老化,将提高薄膜的附着力,还可防止镀件在二次转移过程中发生氧化,将较大程度提高镀件的质量。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于真空镀膜机的真空室温度自动控制装置。
根据本发明,提供一种镀膜机真空室温度自动控制装置,包括热敏电阻,温度控制器和受控开关,其中,
热敏电阻安装在镀膜机真空室内,用于测量镀膜机真空室温度;
温度控制器用于设定镀膜机真空室所需温度值,接收所述热敏电阻测量的镀膜机真空室温度,当该测量温度值低于该设定温度值时,输出使受控开关接通的直流电压,当该测量温度值高于该设定温度值时,输出使受控开关断开的直流电压;
受控开关根据所述温度控制器输出的直流电压接通或断开,从而控制镀膜机的真空室加热装置通电或断电。
优选地,所述温度控制器的温度设定范围为0℃~500℃。
优选地,所述温度控制器的温度设定精度为±(0.1℃~5℃)。
优选地,所述受控开关是可控硅或固态继电器。
优选地,所述可控硅或固态继电器根据其输入端的直流电压控制其输出端的通断。
优选地,所述受控开关是是包括驱动电路和继电器的控制电路。
优选地,所述驱动电路输出的高低电平控制所述继电器单刀触点的通断。
根据本发明,提供一种真空镀膜机,包括:
如上所述的镀膜机真空室温度自动控制装置,和
真空室加热装置,其与所述镀膜机真空室温度自动控制装置的受控开关连接。
优选地,所述真空室加热装置在调压器的作用下为镀膜机真空室进行加热。
根据本发明的技术方案,包括热敏电阻、温度控制器,和受控开关的温度自动控制装置,可以在0℃~500℃范围内控制镀膜机的烘烤温度,准确度为±(0.1℃~5℃),使得基片加热、薄膜蒸镀和镀件老化均在真空室的高真空环境下进行,防止了镀件在二次转移过程中发生氧化,从而解决了真空镀膜机上无法实现温度自动控制及无法精确控制真空室加热及烘烤温度的难题,使得镀前的基片可以在需要的温度下进行预加热,镀好的镀件可以在需要的温度下进行老化,较大程度提高了镀件的质量。
附图说明
图1为根据本发明实施例1的镀膜机真空室温度自动控制装置示意图;
图2为根据本发明实施例2的镀膜机真空室温度自动控制装置示意图。
具体实施方式
实施例1
图1示出根据本发明实施例1的镀膜机真空室温度自动控制装置示意 图。该装置包括热敏电阻102,温度控制器103,和受控开关104。热敏电阻102安装在镀膜机真空室101内,用于测量镀膜机真空室101的温度。温度控制器103与热敏电阻102连接,可以设定真空室温度和获取热敏电阻102测量的真空室温度,通过比较测量的真空室温度与设定的真空室温度,输出相应的直流电压控制受控开关104的通断,从而控制镀膜机内的真空室加热装置105通电或断电。受控开关例如可以是可控硅开关或固态继电器开关。真空室加热装置105可以在调压器106的作用下为镀膜机真空室101进行加热。
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