[实用新型]镀膜机真空室温度自动控制装置及真空镀膜机无效
申请号: | 201120055634.9 | 申请日: | 2011-03-04 |
公开(公告)号: | CN201981256U | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 郑刚良;苗苗;杜庆荣;安琪;张金伶 | 申请(专利权)人: | 北京无线电计量测试研究所 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;G05D23/24 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 王德桢 |
地址: | 100854 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 真空 温度 自动控制 装置 真空镀膜 | ||
1.一种镀膜机真空室温度自动控制装置,其特征在于,该镀膜机真空室温度自动控制装置包括:
热敏电阻,安装在镀膜机真空室内,用于测量镀膜机真空室温度;
温度控制器,用于设定镀膜机真空室所需温度值,接收所述热敏电阻测量的镀膜机真空室温度并将测量温度值与设定温度值进行比较,当该测量温度值低于该设定温度值时,输出使受控开关接通的直流电压,当该测量温度值高于该设定温度值时,输出使受控开关断开的直流电压;和
受控开关,根据所述温度控制器输出的直流电压接通或断开,从而控制镀膜机的真空室加热装置通电或断电。
2.根据权利要求1所述的镀膜机真空室温度自动控制装置,其特征在于,所述温度控制器的温度设定范围为0℃~500℃。
3.根据权利要求1所述的镀膜机真空室温度自动控制装置,其特征在于,所述温度控制器的温度设定精度为±(0.1℃~5℃)。
4.根据权利要求1所述的镀膜机真空室温度自动控制装置,其特征在于,所述受控开关是可控硅或固态继电器。
5.根据权利要求4所述的镀膜机真空室温度自动控制装置,其特征在于,所述可控硅或固态继电器根据其输入端的直流电压控制其输出端的通断。
6.根据权利要求1所述的镀膜机真空室温度自动控制装置,其特征在于,所述受控开关是包括驱动电路和继电器的控制电路。
7.根据权利要求6所述的镀膜机真空室温度自动控制装置,其特征在于,所述驱动电路输出的高低电平控制所述继电器单刀触点的通断。
8.一种真空镀膜机,包括:
根据权利要求1所述的镀膜机真空室温度自动控制装置,和
真空室加热装置,其与所述镀膜机真空室温度自动控制装置的受控开关连接。
9.根据权利要求8所述的真空镀膜机,其特征在于,所述真空室加热装置在调压器的作用下为镀膜机真空室进行加热。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京无线电计量测试研究所,未经北京无线电计量测试研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120055634.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种铰链总成
- 下一篇:一种接触式密封尼龙托辊
- 同类专利
- 专利分类