[实用新型]数码微弱痕迹提取仪无效

专利信息
申请号: 201120054048.2 申请日: 2011-03-03
公开(公告)号: CN201936108U 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 朱双全 申请(专利权)人: 朱双全
主分类号: G03B17/14 分类号: G03B17/14;G03B15/05;G03B17/56;G02B7/182
代理公司: 北京双收知识产权代理有限公司 11241 代理人: 王菊珍
地址: 232072 安徽省淮*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 数码 微弱 痕迹 提取
【权利要求书】:

1.一种数码微弱痕迹提取仪,包括数码相机(1)、半反射半透射平面镜(2)和聚光镜(7),所述半反射半透射平面镜(2)设置于数码相机(1)的下方且与竖直面及水平面的夹角均为45度,所述聚光镜(7)位于半反射半透射平面镜(2)的后侧,其特征在于:还包括透镜(3)、筒形第一接圈(4)、基座(5)、灯筒(6)、聚光镜调整环(8)、调整螺丝(9)、大功率半导体发光二极管(10)、发光二极管固定座(11)及驱动电源(12),所述数码相机(1)下端固定于第一接圈(4)的上端,所述第一接圈(4)的内腔下部安装透镜(3),所述第一接圈(4)的下端与基座(5)的上端连接,所述基座(5)为内部上下贯通的腔体,所述半反射半透射平面镜(2)安装于基座(5)的内腔,所述基座(5)的后侧壁设有通孔(51),所述灯筒(6)的前端连接到通孔(51)上,所述灯筒(6)的轴线与基座(5)的轴线垂直,所述灯筒(6)的内腔安装有聚光镜调整环(8),所述灯筒(6)的筒壁设有一由前向后相对于轴线倾斜的槽孔(61),所述聚光镜(7)安装于所述聚光镜调整环(8)内,所述调整螺丝(9)穿过槽孔(61)后螺接于聚光镜调整环(8)侧壁上,所述灯筒(6)的后端与发光二极管固定座(11)的前端连接,所述大功率半导体发光二极管(10)固定于发光二极管固定座(11)的前面,所述大功率半导体发光二极管(10)位于所述聚光镜调整环(8)的后侧,所述发光二极管固定座(11)的内腔安装有驱动电源(12)。

2.如权利要求1所述的数码微弱痕迹提取仪,其特征在于:所述基座(5)的内腔由上至下设有上、下端固定衬套(19,20),所述半反射半透射平面镜(2)设置于所述上、下端固定衬套(19,20)之间,所述上固定衬套(19)的下端面、下固定衬套(20)的上端面与半反射半透射平面镜(2)的表面平行,所述下固定衬套(20)的后端设有与所述基座(5)后端的通孔(51)相通的第二通孔(201),所述基座(5)的下端敞口处通过螺环(21)将上固定衬套(19)、下固定衬套(20)及半反射半透射平面镜(2)固定于所述基座(5)的内腔。

3.如权利要求2所述的数码微弱痕迹提取仪,其特征在于:所述数码相机(1)与第一接圈(4)之间安装第二接圈(13),所述第二接圈(13)与第一接圈(4)之间安装偏振镜调整环(14),所述偏振镜调整环(14)内安装第一偏振镜片(15),所述灯筒(6)的内腔前部安装第二偏振镜片(17),所述第二偏振镜片(17)安装于螺环(16)上,所述螺环(16)固定在灯筒(6)内,所述第二偏振镜片(17)位于所述聚光镜调整环(8)的前侧。

4.如权利要求3所述的数码微弱痕迹提取仪,其特征在于:所述透镜(3)为凸透镜或透镜组。

5.如权利要求4所述的数码微弱痕迹提取仪,其特征在于:所述数码相机(1)与第二接圈(13)之间、第二接圈(13)与偏振镜调整环(14)之间、偏振镜调整环(14)与第一接圈(4)之间、第一接圈(4)与基座(5)之间、基座(5)与灯筒(6)之间及灯筒(6)与发光二极管固定座(11)之间均通过螺纹连接。

6.如权利要求5所述的数码微弱痕迹提取仪,其特征在于:所述数码相机(1)的下端安装于一相机固定座(18)上,所述相机固定座(18)与第二接圈(13)之间通过螺纹连接。

7.如权利要求6所述的数码微弱痕迹提取仪,其特征在于:所述发光二极管固定座(11)外表面设有若干圈相间隔的环形凹槽(111)。

8.如权利要求7所述的数码微弱痕迹提取仪,其特征在于:所述大功率半导体发光二极管(10)采用金属基板片状大功率芯片。

9.如权利要求8所述的数码微弱痕迹提取仪,其特征在于:所述发光二极管固定座(11)的后端设有一腔体,该腔体端口通过一端盖(22)密封。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朱双全,未经朱双全许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120054048.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top