[实用新型]高密度铟连接半导体激光器无效

专利信息
申请号: 201120039055.5 申请日: 2011-02-06
公开(公告)号: CN202025982U 公开(公告)日: 2011-11-02
发明(设计)人: 傅高升;林绍义 申请(专利权)人: 福建交通职业技术学院
主分类号: H01S5/042 分类号: H01S5/042;H01S5/028
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350007 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 高密度 连接 半导体激光器
【权利要求书】:

1.高密度铟连接半导体激光器,其特征在于:结构组件由发光元件(1),铟柱(2),固化胶(3),导线一(4),外接引线一(5),结构件一(6),导线二(7),反馈元件光伏探测器(8),结构件二(9),绝缘套管(10),外接引线二(11),外接引线三(12)组成,在洁净的金属材质的结构件一(6)位置上,具有阵列高度为大于5μm,小于100μm,且高度差小于5%、间隔尺寸小于100μm的表面光滑且不易氧化的铟柱(2),发光元件(1)与结构件一(6)的高密度铟柱(2)通过固化胶(3)固化在一起,结构件一(6)与结构件二(9)固定在一起,外接引线一(5)和外接引线三(12)穿过绝缘套管(10)后与在结构件二(9)的相应通孔位置固定在一起,外接引线二(11)与结构件二(9)的相应通孔位置固定在一起,导线一(4)与发光元件(1)的负极和外接引线一(5)通过焊接方式固连在一起。

2.根据权利要求书1所述的高密度铟连接半导体激光器,其特征在于:结构件一(6)和结构件二(9)可以是一个结构件。

3.根据权利要求书1和2所述的高密度铟连接半导体激光器,其特征在于:结构件一(6)是利用金属材料制作而成,表面为镀1层或镀多层的镀层。

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