[发明专利]刻蚀装置和刻蚀方法

说明书

技术领域

本发明涉及光刻蚀技术领域，具体而言，涉及一种刻蚀装置和刻蚀方法。

背景技术

等离子显示屏是一种自发光、重量轻、视角宽、厚度薄、全数字化、动态显示效果好的新型平板显示器件。

显示器中一些部件比如维持显示电极、汇流电极都需要使用光刻蚀工艺，该工艺都需要使用刻蚀装置。其中维持放电电极之间隙大小对显示单元放电着火电压及电压裕度影响很大。现有技术中的刻蚀装置包括并行设置的喷管和与喷管连接的喷嘴，使用时，基板朝向刻蚀装置移动，移动至刻蚀装置的正下方，采用喷嘴喷淋的方式进行刻蚀以形成电极。

利用上述的刻蚀装置易出现刻蚀不均匀的问题，进而造成制得的汇流(BUS)电极的宽度不均匀。

发明内容

本发明旨在提供一种刻蚀装置和刻蚀方法，以解决现有技术中刻蚀不均匀的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种刻蚀装置，包括：并行设置的多个喷管和与喷管连接的第一喷嘴，刻蚀装置还包括：喷液装置，位于喷管的上游侧，喷液装置包括：液体注入部；液体存储部，与液体注入部连通；第二喷嘴，位于液体存储部的底部。

进一步地，液体注入部包括多个并行设置的软管。

进一步地，液体存储部包括本体部和收缩部，收缩部位于本体部的下方并朝向下方逐渐收缩地延伸，第二喷嘴连接在收缩部的底部。

进一步地，第二喷嘴具有可调的出液间隙。

进一步地，第二喷嘴的出液间隙沿垂直于喷管的方向延伸。

根据本发明的另一方面，提供了一种刻蚀方法，包括以下步骤：利用喷液装置的第二喷嘴使刻蚀液自然流到待刻蚀部件的表面；利用与喷管连接的第一喷嘴向待刻蚀部件的表面喷射刻蚀液从而制得电极。

应用本发明的技术方案，在刻蚀装置中增加了喷液装置，设置在喷管的上游侧，该喷液装置包括：液体注入部、液体存储部和第二喷嘴，其中，液体存储部与液体注入部连通；第二喷嘴位于液体存储部的底部。应用本发明的喷液装置，使得刻蚀液通过液体注入部注入至液体存储部内，刻蚀液通过自身重力作用从第二喷嘴流出，位于第二喷嘴下方的基板移动，使得液体连续不断的流到该基板的表面，由于喷射压力很小，不易造成不均匀分布。这样，可以让刻蚀液均匀的喷涂在基板表面，这样有利于改善基板表面与刻蚀液的亲和力，减少由于喷嘴直接喷射造成的圆弧状不均匀。提高显示电极的均匀性，提高放电单元的稳定性。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本发明的刻蚀装置的实施例的俯视示意图，其中图中也示出了待刻蚀的基板；

图2示出了图1的刻蚀装置的喷液装置的剖视示意图；以及

图3示出了根据本发明的刻蚀方法的实施例的流程示意图。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

发明人经过一系列的试验验证，刻蚀装置的刻蚀效果不仅受感光剂性质和原版状态的制约，更受到刻蚀条件如刻蚀液的浓度、温度、疲劳程度以及刻蚀时间等的影响。具体的情况如下：

浓度的影响：刻蚀液的浓度，一般是指刻蚀主剂的含量。刻蚀液浓度不足，不仅会增加刻蚀时间，而且容易造成刻蚀不彻底。浓度过大，则刻蚀时间加快，整个过程难以控制，易造成刻蚀过度，侵蚀溶解受光的感光层，降低附着力。

温度的影响：在其他刻蚀条件相对稳定的情况下。刻蚀温度越高，刻蚀速度越快，反之则越慢。一般刻蚀温度应控制在35℃左右。温度随喷嘴角度变化而变化，角度越小喷射到基板上的温度越高，扇形角度越大喷射到基板上的温度越低。

压力的影响：压力随喷嘴角度变化而变化，角度越小喷射到基板上的压力越大，扇形角度越大喷射到基板上的压力越小。

发明人经一系列试验发现，喷嘴在喷射时温度分布是有差异的，扇形外部和中部有差异，喷射到玻璃基板上的压力也有偏差，从而造成了刻蚀的圆弧状波纹，进而使得显示电极刻蚀不均匀，影响了放电单元的稳定性。

针对上述问题，发明人调整了第一喷嘴类型，变更摇摆频率都无法完全消除这种不均匀的波纹，经过分析研究，发现刻蚀液与基板表面的浸润型不好容易产生此类不均匀。