[发明专利]液处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及向基板供给多种处理液而对基板进行液处理的技术。

背景技术

半导体制造工序中存在对基板进行液处理的工序。作为液处理工序，可列举出利用清洗液进行的基板的清洗、利用镀液进行的基板的镀处理、利用蚀刻液进行的蚀刻处理、利用显影液进行的显影处理等工序。用于这种处理的液处理单元例如包括：杯状件、设在杯状件内的旋转卡盘(chuck)等旋转基体、用于将处理液供给到基板的喷嘴、对杯状件内进行排气的排气口。另外，进行基板清洗等时，准备多种处理液，特别是进行基板清洗时，与处理液的种类相应地准备多条排气管。

在具有该液处理单元的液处理装置中，有时将用于供给各种处理液的供液管组、用于对从该供液管组朝向喷嘴等供给的处理液的流通量进行调节的流通控制设备组、用于将使用完了的各种处理液排出的排液管组、用于将包含处理液的蒸气在内的废气排出的排气管组等多个配管组、控制设备组配置在液处理单元的下侧。

即使在这样设置多个设备组的情况下，为了避免液处理装置的大型化，也非常需要各设备组集中地配置在比较狭窄的区域内的布局。因此，有时将不同的设备紧挨着地配置在相邻的区域中，例如，在液处理单元的正下方在纵向上排列排气管、在该排气管的侧部配置流通控制设备组等。

但是，流通控制设备组构成为在处理液的供给配管上配置有流量计、流量调节阀等，在排气管那样的比较大的配管所通过的区域的附近，针对每个供给配管进行的安装单独的设备的作业是难以确保作业空间且繁杂的作业。另外，存在这样的问题：在进行液处理装置的组装之后，在被排气管挡住的区域中，不能直接对流通控制设备组进行维护，例如从与排气管相反的一侧将手伸到液处理单元的下侧而拆卸设备等维护作业难以进行，对作业者造成的负担较大。

在此，在专利文献1所示的基板处理装置中，记载有一种处理液供给组件，其具有处理液供给功能、处理液混合功能、流量调整功能、处理液循环功能中的任意一种功能、并且能够拆卸。但是，专利文献1的处理液供给组件与处理单元的连接部位于从基板处理装置的侧面观察时的里侧，未解决需要伸长手臂来进行处理液供给组件的装卸等维护上的问题。

专利文献1：日本特开2010-147212号公报，段落0050～0052、图2

发明内容

本发明是在这样的背景下做成的，其目的在于提供一种易于进行装置的组装、维护的液处理装置。

本发明的液处理装置用于对基板进行液处理，其特征在于，

该液处理装置包括：

液处理单元，其用于利用处理液对基板进行液处理；

供液用配管，为了将处理液供给到液处理单元中，该供液用配管的一端侧与液处理单元连接、该供液用配管的另一端侧被引绕到该液处理单元的下侧；

壳体，其内部安装有介于该供液用配管之间的流通控制设备组；

上游侧连接部和下游侧连接部，其均以面朝位于该液处理装置的侧方的主维护区域的方式设在该壳体内，该上游侧连接部用于相对于比上述流通控制设备组靠上游侧的供液用配管进行装卸，该下游侧连接部用于相对于比上述流通控制设备组靠下游侧的供液用配管进行装卸。

上述液处理装置也可以具有以下的特征。

(a)上述上游侧连接部设在上述壳体内的下部侧的位置，上述下部侧连接部设在该壳体内的上部侧的位置。

(b)上述流通控制设备组借助支承构件安装在上述壳体中，该支承构件用于集中配置该流通控制设备组，该支承构件被设置成向主维护区域侧抽出自如。

(c)上述供液用配管与处理液的种类相对应地设有多条；上述支承构件设为针对每种供液用配管抽出自如。

(d)在上述液处理装置的靠主维护区域侧的侧面上设有盖体，该盖体用于在将上述流通控制设备组向主维护区域打开的状态、将主维护区域和上述流通控制设备组划分开的状态这两种状态之中选择一种状态。

(e)从上述主维护区域观察时，用于对来自液处理单元的液体进行排液的排液用配管隔着上述流通控制设备组设在与上述主维护区域相反的一侧。

(f)上述排液用配管固定设置于该液处理装置。

(g)在从隔着上述液处理单元与主维护区域相对的位置面朝该液处理单元的位置，设有能够用于维护上述排液用配管的副维护区域。

(h)液处理单元横向排列地设有多个；与各液处理单元相对应的流通控制设备组安装在共同的壳体中，该共同的壳体在液处理单元的下方沿着由液处理单元排列而成的列设置。