[发明专利]一种印刷电路板厚铜细线路板内层制备方法无效
申请号: | 201110455567.4 | 申请日: | 2011-12-29 |
公开(公告)号: | CN103188879A | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 郑贵兵;杨平程 | 申请(专利权)人: | 深圳玛斯兰电路科技实业发展有限公司 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518104 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 印刷 电路板 细线 内层 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及印刷电路板的内层制备技术,尤其涉及一种印刷电路板厚铜细线路板的内层制备方法。
背景技术
印刷线路板朝软硬结合、高层、细线路方向快递发展,厚铜细线路板已经被广泛用于汽车、通讯、船舶、军工等领域,对厚铜细线路板的内层制备提出了更高的要求。目前厚铜细线路板的内层制备方法是,①前处理采用磨板;②涂布时涂一次油墨;③手动曝光机曝光;④酸性蚀刻线蚀刻。存在下列缺陷:
(1)前处理采用磨板,缺陷是:磨板后铜面粗糙度极不均匀,抗蚀剂附着力差,显影及蚀刻过程中抗蚀剂易脱落;
(2)涂布时涂一次油墨,缺陷是:涂一次油墨抗蚀层厚度仅10~14um,因厚铜板蚀刻时间相对较长,油墨膜太薄蚀刻过程中抗蚀剂易脱落;
(3)手动曝光机曝光,缺陷是:①手动曝光机菲林不易清洗,操作过程中易产生掉屑、异物;②手动曝光机能量均匀性较差,曝光后易出现局部线路图形走样变型而失真;
(4)、酸性蚀刻线蚀刻,缺陷是:蚀刻过程中存在水池效应,蚀刻均匀性低于85%,蚀刻后之线路不规则、线路粗细不均、线宽极差较大。
为克服上述制备方法的缺陷,我司研创了一种印刷电路板厚铜细线路板内层制备方法:前处理采用磨板加化学微蚀;涂布时涂二次油墨;采用台湾川宝科技股份有限公司川宝牌(型号:E2100-7KMD)半自动曝光机进行曝光;蚀刻时采用加密喷嘴及补偿蚀刻、菲林线宽进行分段补偿。
此方法适合大小批量厚铜细线路板的生产且提高产品的质量。
发明内容
本发明提供一种印刷电路板厚铜细线路板内层制备方法。采用的技术方案是:
1.前处理采用磨板加化学微蚀,增加抗蚀剂与铜面的结合力;
2.涂布时涂二次油墨,增加抗蚀层厚度,降低开路、缺口、报废品的产生;
3.采用台湾川宝科技股份有限公司川宝牌(型号:E2100-7KMD)半自动曝光机进行曝光,减少曝光异物的产生及线路图形走样变型而失真;
4.对生产菲林线宽进行分段补偿,蚀刻时采用加密喷嘴及补偿蚀刻,提升蚀刻后线宽之均匀性。
本发明提供一种印刷电路板厚铜细线路板内层制备方法,可取得下列效果:
1、增加抗蚀剂与铜面的结合力;
2、增加抗蚀层厚度,降低开路、缺口、报废、节约生产耗材;
3、减少曝光异物的产生,减少线路图形失真;
4、开路、缺口、报废率可降至1.5%;
5、蚀刻后线宽线隙公差可控制在±10%以内;
6、抽真空度的效率提高到了10-15秒。
7、整个作业不存在手工操作失误,节省耗材15%,品质得到提升,适合大小批量生产厚铜细线路板的内层制备。
具体实施方式
制备流程如下:基板开料→化学前处理→内层涂膜(2次)→曝光→显影/蚀刻/退膜→AOI→黑/棕氧化→预排(熔合、铆钉)→排板→压板→钻定位孔→压板成型→外层工艺。
(1)前处理增加化学微蚀:将厚铜细线路板放在宇宙P、C、B设备有限公司(型号:CCP30M7BA)的化学前处理线上,利用硫酸、双氧水与铜的化学反应来增加铜的表面积和粗糙度,其化学反应式为CU+H2SO4+H2O2=CUSO4+2H2O(副产物CUCL),微蚀深度值要达到50±20uinch(微英寸);
(2)涂布:将前处理微蚀后在化学前处理线上清洗、哄干后,转到群翊牌设备(型号:GCP-75P2)上通过刮刀压力将油墨均匀挤压到滚轮纹路沟槽上,再经过滚轮运转将油墨均匀涂覆到板面上。涂布一次烘干后再进行第二次涂布,油墨膜厚度值达到18~22μm(微米),油墨膜厚分布均匀性须大于88%;
(3)曝光:将涂布好的厚铜细线路板转到,台湾川宝科技股份有限公司川宝牌(型号:E2100-7KMD)半自动曝光机上进行曝光,利用油墨的感光特性将菲林上的资料图形转移到涂好油墨的板上。台湾川宝科技股份有限公司川宝牌(型号:E2100-7KMD)半自动曝光机能量均匀性可达90%以上,抽真空度为400-450mmHg(毫米汞柱),解析度为3mil/3mil,图形转移过程中不会产生失真现象;
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