[发明专利]一种液晶显示面板阵列基板的制作方法

权利要求书

1.一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，包括如下步骤：

提供一基板；

依次形成栅极、栅极绝缘层、半导体层、第一透明电极、源极和漏极于该基板上；

再形成第一钝化层覆盖该源极、漏极、半导体层和该栅极绝缘层，其中该第一钝化层的沉积功率小于5500瓦；

接着再形成一第二钝化层覆盖该第一钝化层，其中该第二钝化层的沉积功率大于5000瓦；

然后再形成第二透明电极于该钝化层上。

2.如权利要求1所述的一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，该第一钝化层的沉积反应气体为硅烷和氨气。

3.如权利要求2所述的一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，该第一钝化层使用的沉积反应气体硅烷和氨气的气体流量小于6500标准毫升每分钟。

4.如权利要求1所述的一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，该第一钝化层沉积的厚度为50～250埃。

5.如权利要求1所述的一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，该第二钝化层为多层结构。

6.如权利要求1所述的一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，该第二钝化层为两层结构。

7.如权利要求1所述的一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，该第二钝化层的沉积压力大于等于1500兆帕。

8.如权利要求1所述的一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，该第二钝化层的沉积反应气体硅烷和氨气。

9.如权利要求1所述的一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，该第一透明电极层为画素电极。

10.如权利要求10所述的一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，该画素电极的材质为氧化铟硒。

11.如权利要求1所述的一种液晶显示面板阵列基板的制作方法，该第二透明电极层为共通电极。