[发明专利]具自转及公转复合式真空溅镀设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于镀膜的工具，尤指一种具自转及公转复合式真空溅镀设备。

背景技术

溅镀是指利用氩离子轰击靶源，靶源原子被击出后变成气相并析镀于待镀物上，溅镀具有以下优点：一，可广泛应用，几乎任何材料均可镀上镀膜；二，无污染；三，附着性良好。

现有的真空溅镀设备包含有一腔体、一滚筒、多个治具、一动力装置及一靶台；腔体内为真空；滚筒轴向设于腔体的真空内部空间内，且具有一轴向开口；各治具环绕设置于滚筒内；动力装置使滚筒及治具在腔体内转动；靶台穿设滚筒，且靶台上设有至少一靶源。

使用时，待镀物设于治具上，而靶台上的靶源则开始解离以提高滚筒内的离子浓度，并使待镀物可进行镀膜；而由于靶台不动，且靶台上的靶源始终面对同一方向，因此正对靶源之处的离子浓度自然较他处为高；所以使用时，动力装置会带动滚筒、治具及待镀物围绕靶台转动，进而使各治具上的待镀物，皆可轮流经过高离子浓度之处，以达到各待镀物均匀镀膜的功效。

然而，即使各治具皆会轮流经过靶源前方，但是由于每次经过时，治具始终是同一面朝向靶源，因此各待镀物上，其朝向靶源的面会因离子浓度较高而镀得更厚，而背向靶源的面则会因离子浓度低而镀得较薄，进而造成待镀物上各面镀膜厚度不一的缺点。

有鉴于前述现有技术的真空溅镀设备，其无法均匀地镀膜于待镀物的每一面的缺点及不足，本发明提供一种具自转及公转复合式真空溅镀设备。

发明内容

本发明的目的是在于提供一种具自转及公转复合式真空溅镀设备，其可进一步通过治具的自转，以使治具上的待镀物的每一面可轮流朝向靶源，进而达到均匀镀膜的效果。

为达到上述的发明目的，本发明提出一种具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中包含：

一腔体，其具有一可形成真空的内部空间；

一滚筒，其设于腔体的内部空间内；

多个治具，其皆设于滚筒内，且环绕排列于滚筒的轴心外；

至少一靶台，其设于滚筒内，靶台上设有至少一靶源；以及

一使各治具自转并相对靶台的靶源公转的动力装置。

本发明的优点在于，通过使各治具在环绕靶台的靶源公转时，亦同时自转，因此治具上的待镀物，其每一面皆可轮流朝向靶源，进而使每一面皆可轮流接触到离子浓度较高之处，以使各面的镀膜厚度更为均匀。本发明借此达到使待镀物的各面均匀镀膜的目的。

进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中动力装置包含有一动力源及一传动机构，其动力源连接并驱动传动机构，传动机构连接并驱动各治具，并使各治具可相对靶台的靶源公转，并且于公转时，各治具同时自转。

进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中动力装置的传动机构包含有一中心齿轮及多个环绕齿轮，中心齿轮固设于滚筒的轴向底面；环绕齿轮枢设于滚筒的轴向底面，且环绕并啮合于中心齿轮，前述的治具固设于相对应的环绕齿轮轴心；动力源驱动中心齿轮转动。

进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中各治具包含有一主杆及多个固定件，主杆端部固设于相对应的环绕齿轮轴心，各固定件间隔设置于主杆上。

进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中各固定件包含有一直杆、多个横杆及一固定杆；直杆设于主杆上；各横杆一端间隔设置于直杆上；固定杆装设于各横杆上，且位于横杆的另一端。

进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中腔体进一步具有一轴向的开口；另包含一门体，该门体可分离地盖设于该腔体的轴向开口，该靶台的一端连接该门体。

进一步而言，所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其中具有两靶台，两靶台的夹角小于180度。

附图说明

以下附图仅旨在于对本发明做示意性说明和解释，并不限定本发明的范围。其中：

图1为本发明的侧视剖面示意图。

图2为本发明的滚筒的立体外观示意图。

图3为本发明的治具的立体外观示意图。

图4为本发明的传动机构的示意图。

图5为本发明使用时的前视作动示意图。

图6为本发明的门体打开后的侧视剖面示意图。

主要元件标号说明：

10腔体                        20滚筒

30治具                        31主杆

32固定件                      321直杆