[发明专利]氧化硅玻璃坩埚及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种氧化硅玻璃坩埚及其制造方法。

背景技术

一般来讲，单晶硅是通过在氧化硅玻璃坩埚内，使高纯度的多晶硅熔融而得到硅熔液后，将晶种的端部浸入到这个硅熔液中并使其旋转的同时进行提拉而制得。

氧化硅玻璃坩埚一般要经过如下多个工序才可出货，即，要经过：在旋转模具的内表面堆积氧化硅粉末，在使这个氧化硅粉末熔融的电弧熔化工序之后，通过对坩埚外表面喷射高压水来去除附着在坩埚外表面的未熔化的氧化硅粉末的珩磨工序(honing process)；为使坩埚的高度达到特定值而以某个宽度切断坩埚开口端部的缘部切割工序；清洗工序；干燥工序；检查工序；HF(氟酸)清洗工序等。

[背景技术文献]

[专利文献]

专利文献1：日本实用新型专利登录第2533643号公报

专利文献2：日本公开专利平11-209136号公报

发明内容

发明所要解决的问题

每个用户都有着各自的要求，因此，在坩埚的生产线需要制造规格各不相同的、种类非常多的坩埚，不过，特别是在规格不同但外观上无法区分的情况下，存在着在制造工序中有可能会拿错规格不同的坩埚的问题。

作为防止拿错坩埚的方法，在专利文献1中记载有采用金刚石气动工具等在坩埚外表面磨削出坩埚等级识别符号的方法。在专利文献1中，是利用形成在坩埚外表面的凹部的数量来识别坩埚的等级的，不过，虽然按照这样的方法也可以识别多个种类的坩埚，但是，因为随着要识别的坩埚种类的增多凹部的数量也会变多，所以，采用专利文献1的技术来识别多种规格的坩埚的方法，从制造效率的观点来讲，实现极为困难。

并且，专利文献2中记载有利用YAG激光标记对石英玻璃部件进行标记的方法，激光标记的标记速度非常快，而且可以标记条形码、文字、标章、符号、阿拉伯数字等各种记号，所以，适用于识别规格互不相同的多种石英玻璃部件。

可是，专利文献2的方法是在石英玻璃部件特定部位上接触由碳等构成的垫板的状态下，以透过石英玻璃部件照射YAG激光的方式，将碳等烧结到石英玻璃部件上而进行标记的方法，可是，将该方法用于坩埚的情況下，当坩埚用于提拉单晶硅时剥离的碳等有可能会混入硅熔液中，并且，透过石英玻璃部件照射YAG激光时，需要从坩埚内侧向外侧照射YAG激光，不过，每逢标记的时候，使激光标记移动至坩埚内侧需要很大的工夫。因此，将专利文献2的技术应用到坩埚的标记中是极其困难的。

因此，现状是无论哪个现有技术都不能用于识别规格互不相同且种类非常多的坩埚，因而防止在制造工序中拿错坩埚只能靠工作者的注意力。

有鉴于此，本发明提供一种能防止在制造工序中拿错坩埚的氧化硅玻璃坩埚的制造方法。

解决课题的手段

本发明提供一种氧化硅玻璃坩埚的制造方法，其包括：在可制定氧化硅玻璃坩埚外形的模具的内表面堆积氧化硅粉末而形成氧化硅粉层的氧化硅粉层形成工序；在所述模具内通过电弧加热来熔化所述氧化硅粉层并形成氧化硅玻璃层，最终形成氧化硅玻璃坩埚，同时，可在所述氧化硅玻璃层和所述模具之间残留未熔化氧化硅粉层而结束电弧加热的电弧加热工序；从所述模具取出所述氧化硅玻璃坩埚的取出工序；以及去除位于所述氧化硅玻璃坩埚外表面的未熔化的氧化硅粉层的珩磨工序，并且，进一步包括：在所述取出工序之后且在所述的珩磨工序之前进行的在所述氧化硅玻璃坩埚外表面标注由1个或多个槽线构成的标识符的标记工序，其中，所述槽线在所述珩磨工序后的深度是0.2～0.5mm，所述槽线在其开口部的宽度是0.8mm以上。

本发明的发明人对防止在制造工序中拿错坩埚的课题进行了深度讨论，首先，想到了在取出工序之后且在珩磨工序之前，进行标识符的标记的方法。

因为在刚进行取出工序之后的氧化硅玻璃坩埚上，有未熔化的氧化硅粉末附着在坩埚外表面上，所以，不适合进行标记，一般会想到在珩磨工序中去除未熔化的氧化硅粉末之后进行标识符的标记，可是，本发明的发明人未按照该一般常识，而想出了在珩磨工序前，在未熔化的氧化硅粉末附着在氧化硅玻璃坩埚外表面的状态下进行标识符的标记的做法。

如果在珩磨工序之后进行标记，则电弧加热工序到标记工序之间存在1个或多个工序，在这个期间，因为氧化硅玻璃坩埚会在没有标记标识符的状态下移动，所以很容易发生拿错坩埚的情况，不过，如本发明所述，在取出工序之后且在珩磨工序之前进行标识符的标记的话，能在将坩埚从模具取出之后立即且未将其移动到其他地方之前标记标识符，所以很难发生拿错坩埚的情况。