[发明专利]光刻中曝光条件设置方法

权利要求书

1.一种曝光条件设置方法，用于第一工艺平台下初次使用的光刻版的第一次光刻过程中，其特征在于，至少根据该光刻版的供应商信息而对应设置所述曝光条件中的初始曝光能量。

2.如权利要求1所述的曝光条件设置方法，其特征在于，在第一次光刻的过程中，还根据该光刻版的供应商信息而对应设置所述曝光条件中的初始套刻参数。

3.如权利要求1或2所述的曝光条件设置方法，其特征在于，还包括建立光刻版数据库；其中，

所述光刻版数据库包括多个所述光刻版的名称、每个所述光刻版所对应的供应商信息、每个供应商信息对应的曝光能量补偿值。

4.如权利要求3所述的曝光条件设置方法，其特征在于，所述光刻版数据库还包括每个供应商信息对应的套刻参数补偿值。

5.如权利要求2所述的曝光条件设置方法，其特征在于，所述套刻参数包括X/Y方向偏移量、X/Y膨胀系数、旋转度和/或正交性。

6.如权利要求3所述的曝光条件设置方法，其特征在于，所述每个供应商信息对应的曝光能量补偿值是由与该光刻版的供应商信息相同的其他光刻版在第一工艺平台下光刻过程中获得。

7.如权利要求4所述的曝光条件设置方法，其特征在于，所述每个供应商信息对应的套刻参数补偿值是由与该光刻版的供应商信息相同的其他光刻版在第一工艺平台下光刻过程中获得。

8.如权利要求3所述的曝光条件设置方法，其特征在于，所述曝光条件设置方法应用于先进工艺控制系统中。

9.如权利要求8所述的曝光条件设置方法，其特征在于，还包括步骤：将所述光刻版数据库导入所述先进工艺控制系统中。