[发明专利]基于缺陷地结构的微带延迟线有效
| 申请号： | 201110441316.0 | 申请日： | 2011-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN102496768A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 吕翼;李伟;张龙;唐盘良;朱勇;董姝 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第二十六研究所 |
| 主分类号： | H01P9/00 | 分类号： | H01P9/00;H01P9/04 |
| 代理公司： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人： | 王海权 |
| 地址： | 400060 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 缺陷 结构 微带 延迟线 | ||
【权利要求书】：
1.基于缺陷地结构的微带延迟线，其特征在于：包括
微带延迟线结构，包括介质板，所述介质板的正面为任意结构的左手延迟线或左右手复合结构延迟线，所述介质板的背面为去掉了部分本体的金属面，去掉的部分与正面延迟线相匹配构成的缺陷地结构等效于并联电感；
射频接头，设置于微带延迟线两侧，且与微带延迟线结构电连接。
2.根据权利要求1所述的基于缺陷地结构的微带延迟线，其特征在于：还包括壳体，该壳体为防电磁干扰的内凹的长方体金属外壳，用于封闭整个微带延迟线结构，所述射频接头安装于壳体上。
3. 根据权利要求2所述的基于缺陷地结构的微带延迟线，其特征在于：所述微带延迟线结构通过非金属化螺钉孔进行固定和背面良好接地。
4.根据权利要求1至3任一所述的基于缺陷地结构的微带延迟线，其特征在于：所述微带延迟线结构上所有裸露的金属均采用镀金处理。
5. 根据权利要求1所述的基于缺陷地结构的微带延迟线，其特征在于：所述微带延迟线结构的金属面的厚度为0.035-0.08mm。
6. 根据权利要求1所述的基于缺陷地结构的微带延迟线，其特征在于：所述微带延迟线结构使用导电胶固定在介质板上。
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