[发明专利]铝或其合金成型表面黏着型电感器的制造方法及其结构无效
| 申请号: | 201110436550.4 | 申请日: | 2011-12-19 |
| 公开(公告)号: | CN103165279A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
| 发明(设计)人: | 黄浩洲;林士超;林京霆 | 申请(专利权)人: | 黄浩洲;林士超;林京霆 |
| 主分类号: | H01F41/00 | 分类号: | H01F41/00;H01F17/04;H01F27/36;H05K9/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王雪静;逯长明 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 合金 成型 表面 黏着 电感器 制造 方法 及其 结构 | ||
技术领域
本发明有关于一种被动组件的技术领域,尤指一种铝或其合金成型表面黏着型电感器的制造方法及其结构。
背景技术
电感为一很重要的被动组件,应用于电子电路中,具有如稳流、阻抗、匹配、滤波、储能、谐振等功能,又随电子产品日趋小型化和组件精密度提高,电感尺寸也要求更加精密小巧,以符合电路板和效率要求。
为满足前揭需求,电感的结构常设计成可配合表面黏着技术(Surface Mounting Technology,SMT),也称表面黏着装置(SMD)加工程序。
习知技术中,有关所述的电感器的结构,如中国台湾公开第201021057号发明专利案,是将电感器的线圈埋入磁性体中,制造此种电感器的方法,是先将该线圈利用治具先定位于模具中,并将具有黏着剂的路径大小相当的铁粉填充于模具中,且包覆该线圈,再施予压力将铁粉压合成铁氧体层,然后加热该包含有线圈的铁氧体层,以使其固化,最后将其进行喷涂包覆的表面处理,才能达到绝缘效果。
但,在前述制程不仅繁琐冗长,工时成本高,将线圈利用治具定位于模具中,及以机具填充铁粉材料等程序,其需顺序动件和时间单位产能不高,成型稳定度和良率亦有不足,再者该喷涂包覆的表面处理,会造成其性能表面上容易聚热,使线圈产生阻抗,影响电感器数值稳定度,同时也降低其耐用度和寿命,是以乃有必要加以改善。
发明内容
本发明的主要目的,在于提供一种铝或其合金成型表面黏着型电感器的制造方法及其结构,以解决习用的缺失,使其加工过程更加简化,降低生产成本,提升产能和良率,同时兼具散热和电子效能提升的效果。
为达上述目的,本发明采用的技术手段为一种铝或其合金成型表面黏着型电感器的制造方法,包含:以铝或其合金的成型素材,经加热呈半流动状态,藉由成型模具和挤压加工制程,以完成该具有一容槽的磁屏蔽半成品;
该冷却的磁屏蔽半成品,通过阳极处理的表面处理制程,在其表面形成一氧化膜的披覆膜层,经清洗干燥后为一磁屏蔽半成品;
提供一线圈,包含一铁心,铁心容设于线圈的中空部,以及线圈两侧以离心线各延伸一线脚;
将该包含铁心的线圈埋入式的设于磁屏蔽内部,且部份线脚端外露于该磁屏蔽,以及在磁屏蔽的容槽内空间填注绝缘胶,将突出磁屏蔽部份整平,使该线脚端外露,以形成一表面黏着型电感器成品。
通过上述技术方案,本发明可以在制程上更加精简,减省工时成本的浪费,且具有良好的物理特性和散热效能增进,同时在其表面以阳极处理技术成的一氧化膜披覆膜层,不仅美观、易辨识和耐用度佳,同时兼具绝缘、防污损,对环境的抵抗力亦佳,另该氧化膜的披覆膜层,其具有较高热辐射放射率,且表面具有微小的气孔,可以让热量散发,能提供该电感器更优异的散热效果,当然对电子组件而言,降低工作的温升效应,乃同时降低其阻抗,提升其效率和耐用度相对使其寿命增加。
附图说明
图1为本发明的制造流程方块示意图。
图2为本发明挤压加工成型磁屏蔽半成品的立体外观示意图。
图2A为本发明的磁屏蔽成品的剖视图。
图3为本发明磁屏蔽半成品埋设线圈的示意图。
图4为本发明包含线圈的磁屏蔽成品填注绝缘胶的示意图。
图5为本发明另一实施例包含线圈的磁屏蔽成品填注绝缘胶的示意图。
图6为本发明的表面黏着型电感器成品的俯、仰角度立体示意图。
图7为本发明挤压加工成型磁屏蔽半成品另一实施例的立体组合示意图。
主要组件符号说明
S1 铝或其合金的成型素材
S2 加热
S3 成型模具和挤压加工制程
S4 表面处理制程
S5 清洗干燥
S6 线圈埋入式的设于磁屏蔽内部
S7 填注绝缘胶
S8 表面黏着型电感器成品
t1 呈半流动状态
t2 磁屏蔽半成品
t3 表面形成披覆膜层
t4 磁屏蔽成品
t5 治具定位
t6 取出
t21 筒形体
t22 封盖
10 线圈
11 铁心
12 中空部
13、14 线脚
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于黄浩洲;林士超;林京霆,未经黄浩洲;林士超;林京霆许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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