[发明专利]一种用于等离子反应室的层叠型组件及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种用于等离子反应室的层叠型组件及其制造方法。

背景技术

等离子子反应室具有许多层叠型组件，层叠型组件需要将至少两个部分按照各种方式层叠在一起。

本发明就是为了寻求一种高效低耗，而又不影响层叠型组件机能的制造方法。

发明内容

针对背景技术中的上述问题，本发明提出了一种用于等离子反应室的层叠型组件及其制造方法。

本发明第一方面提供了一种制造用于等离子体反应室的层叠型组件的制造方法，其中，所述制造方法包括如下步骤：

提供一个具有至少一个接合面的第一部分；

提供一个具有至少一个和所述第一部分的所述接合面配合的接合面的第二部分；

在所述第一部分的接合面上施加一层硬性第一结合层；

在所述第一结合层上施加一层由弹性材料制成的第二结合层；

形成包括所述第一部分和所述第二部分的层叠型组件，使得所述第一结合层和所述第二结合层结合所述第一部分和所述第二部分的各接合面。

进一步地，所述第一结合层由金属制成。

进一步地，所述第一结合层是金属铝制成。

其中，所述第二结合层包括导电材料，用于提供所述第一部分和所述第二部分之间的导电通路。

可选地，在所述第一部分的接合面上采用PVD、CVD或者蒸发电镀工艺淀积所述结合层。

进一步地，所述制造方法还包括如下步骤：向所述第二部分施加一个力，使得其接合面紧密结合于位于所述第一部分上的第一结合层和第二结合层。

其中，所述层叠型组件包括气体喷淋头，其中，所述第一部分包括用于充当所述等离子反应室的上电极的前板，所述第二部分包括用于充当安装板和电极连接的后板。

其中，所述层叠型组件包括上部接地环，其中，所述第一部分包括充当上部接地电极的前板，所述第二部分包括用于充当安装板和接地连接的后板。

本发明第二方面提供一种用于等离子体反应室的层叠型组件，其中，所述层叠型组件按照本发明第一方面提供的制造方法制成。

其中，所述层叠型组件包括气体喷淋头，其中，所述第一部分包括用于充当所述等离子反应室的上电极的前板，所述第二部分包括用于充当安装板和电极连接的后板。

其中，所述层叠型组件包括上部接地环，其中，所述第一部分包括充当上部接地电极的前板，所述第二部分包括用于充当安装板和接地连接的后板。

本发明第三方面提供了一种等离子体反应室，其中，所述等离子体反应室包括根据本发明第二方面提供的层叠型组件。

其中，所述层叠型组件包括气体喷淋头，其中，所述第一部分包括用于充当所述等离子反应室的上电极的前板，所述第二部分包括用于充当安装板和电极连接的后板。

其中，所述层叠型组件包括上部接地环，其中，所述第一部分包括充当上部接地电极的前板，所述第二部分包括用于充当安装板和接地连接的后板。

由于本发明采用硬性的第一结合层和弹性的第二结合层结合层叠型组件的第一部分和第二部分，使得所述层叠型组件致密度更好，导热性更好。

附图说明

图1是等离子体处理装置的结构示意图；

图2是等离子体处理装置的气体喷淋头和上部接地环的结构示意图；

图3是本发明的第一具体实施例的用于等离子体处理装置的层叠型组件制造方法的步骤流程图；

图4a～4d是本发明的第一具体实施例的用于等离子体处理装置的层叠型组件制造方法示意图；

图5是本发明的第二具体实施例的用于等离子体处理装置的层叠型组件制造方法的步骤流程图；

图6是本发明的第二具体实施例的用于等离子体处理装置的层叠型组件的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图，对本发明的具体实施方式进行说明。

图1是等离子体处理装置的结构示意图。等离子体反应室包括一腔室，其中，设置了一制程区。处理气体和其他辅助气体从腔室顶部进入，射频能量连接于下电极，并提供能量在制程区激发并产生等离子，使得其与其中的基片进行各种物理或化学反应，从而完成预定的制程。其中，还设置了一个真空泵，用于将制程冗余的杂质气体等抽出腔室以外。其中，所述等离子体反应室还包括一位于所述顶部的气体喷淋头1和位于所述气体喷淋头(showerhead)1外围的上部接地环(upper ground ring)2。