[发明专利]透明被膜形成用涂布液及带该透明被膜的基材有效

专利信息
申请号: 201110428362.7 申请日: 2011-12-19
公开(公告)号: CN102533098B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 箱嶋夕子;松田政幸;村口良 申请(专利权)人: 日挥触媒化成株式会社
主分类号: C09D183/00 分类号: C09D183/00;C09D133/00;C09D7/12;B32B9/04
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 胡烨
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 透明 形成 用涂布液 基材
【权利要求书】:

1.透明被膜形成用涂布液,它是由基质形成成分和金属氧化物微粒和溶剂构成的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,含有作为均化剂的平均分子量在5000~30000的范围的丙烯酸-有机硅系树脂,且均化剂的含量以固体成分计在0.001~7.2重量%的范围。

2.如权利要求1所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述基质形成成分的浓度以固体成分计在1~59.9重量%的范围,所述金属氧化物微粒的含量以固体成分计在0.025~48重量%的范围,总固体成分的浓度在5~60重量%的范围。

3.如权利要求1或2所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述金属氧化物微粒为由选自二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化锡、五氧化锑、氧化铟及它们的复合氧化物、含掺杂剂的所述金属氧化物及它们的复合氧化物的至少1种构成的微粒。

4.如权利要求3所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述金属氧化物微粒为二氧化硅系微粒。

5.如权利要求1~4中任一项所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述金属氧化物微粒用有机硅化合物进行了表面处理。

6.如权利要求1~5中任一项所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述金属氧化物微粒的平均粒径为5~300nm的范围。

7.带透明被膜的基材,其特征在于,由基材和形成于基材上的透明被膜构成,该透明被膜由基质成分和金属氧化物微粒形成,还含有作为均化剂的平均分子量在5,000~30,000的范围的丙烯酸-有机硅系树脂,该基质成分的含量以固体成分计在20~99.5重量%的范围,该金属氧化物微粒的含量以固体成分计在0.5~80重量%的范围。

8.如权利要求7所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述透明被膜中的均化剂含量以固体成分计在0.02~12重量%的范围。

9.如权利要求7或8所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述金属氧化物微粒为选自二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化锡、五氧化锑、氧化铟及它们的复合氧化物、含掺杂剂的氧化物、复合氧化物的至少1种以上。

10.如权利要求7~9中任一项所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述金属氧化物微粒为二氧化硅系微粒。

11.如权利要求7~10中任一项所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述金属氧化物微粒用有机硅化合物进行了表面处理。

12.如权利要求7~11中任一项所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述金属氧化物微粒的平均粒径为5~300nm的范围。

13.如权利要求7~12中任一项所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述透明被膜的接触角(CA1)在60~110°的范围,与对该透明被膜的表面进行了皂化处理后的接触角(CA2)的接触角之差为10°以下。

14.如权利要求7~13中任一项所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述透明被膜的雾度值为1.0%以下。

15.如权利要求7~14中任一项所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述透明被膜的表面粗糙度(R a)为20n m以下。

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