[发明专利]透明被膜形成用涂布液及带该透明被膜的基材有效
| 申请号: | 201110428362.7 | 申请日: | 2011-12-19 |
| 公开(公告)号: | CN102533098B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
| 发明(设计)人: | 箱嶋夕子;松田政幸;村口良 | 申请(专利权)人: | 日挥触媒化成株式会社 |
| 主分类号: | C09D183/00 | 分类号: | C09D183/00;C09D133/00;C09D7/12;B32B9/04 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 胡烨 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 透明 形成 用涂布液 基材 | ||
技术领域
本发明涉及用于形成平坦性高、耐白化性、耐水性、耐化学品性等优良的透明被膜的涂布液及带该透明被膜的基材。
背景技术
已知为了提高玻璃、塑料片材、塑料透镜等基材表面、显示装置等的耐擦伤性,在基材表面形成具有硬涂层功能的透明被膜。具体来说是在玻璃或塑料、显示装置基材等的表面形成具有透明性的有机树脂膜或无机膜。这种情况下,在有机树脂膜或无机膜中掺入树脂粒子或二氧化硅等无机粒子以进一步提高与基材的密合性、耐擦伤性等。
但是,除了透明性、与基材的密合性、膜强度、耐擦伤性等以外,还要求透明被膜具有耐化学品性、耐水性、斥水性、耐指纹附着性等。例如,要求水滴附着时不会残留水滴痕迹(耐水性)以及不易被水性笔、油性笔等乱写乱画,即使被写上画上,也容易拭去(耐水性、斥水性、斥油性),还有,即使接触到手指也不易附着指纹,即使附着指纹也容易拭去(耐指纹附着性)。
为了赋予该斥水性、斥油性、耐水性、耐指纹附着性等,使用作为均化剂的具有疏水性基的有机硅系树脂、含氟树脂等(专利文献1:日本专利特开平10-40834号公报等)。
另外,本专利的申请人曾公开过如果将1官能有机硅树脂单体与其他多官能有机硅树脂并用则得到无渗离且斥水性等优良的透明被膜的技术方案(专利文献2:日本专利特开2010-126675号公报)。
专利文献1:日本专利特开平10-40834号公报
专利文献2:日本专利特开2010-126675号公报
发明内容
但是,用现有的方法虽然斥水性、斥油性、耐指纹附着性能够得到某种程度的改进,但是有时与基材的密合性、膜强度不足,或者斥水性不充分。
另外,即使部分地混合使用具有疏水性基的树脂,例如含氟树脂,也会存在这些树脂从透明被膜脱离(被称为渗离)而无法得到充分的耐化学品性、耐水性、斥水性、斥油性、耐指纹附着性等的情况,或者即使得到性能也会经时降低的情况。
另外,在TAC基材形成透明被膜时,为了使粘合用粘合剂密合而将带透明被膜的基材浸渍于皂化浴,对TAC基材的表面进行皂化处理,但是如果部分地掺合使用现有的有机硅系树脂作为均化剂,则存在均化剂溶解、透明被膜发生白化、雾度劣化或者透明被膜的接触角变小、耐擦伤性变差等问题。
另外,使用乙烯基树脂、丙烯酸系树脂或者所述氟系树脂作为均化剂时,在与其他基质形成成分的相溶性上存在问题,并且存在所得的透明被膜的硬度不足的情况。
此外,专利文献2中,虽然透明性、雾度提高,但是白化的抑制不充分,而且透明被膜的表面的平坦性也无法完全满意。
本发明人对这些问题进行了深入的研究,结果发现如果混合使用将分子量调整到规定范围的改性有机硅系树脂基质成分作为均化剂,则能够得到上述问题均得到消除的透明被膜,从而完成本发明。
即,本发明的目的是提供用于形成与基材的密合性、耐擦伤性、膜强度、透明性等优良,同时耐化学品性、耐水性优良且不会发生白化,雾度优良的透明被膜的透明被膜形成用涂布液及带透明被膜的基材。
〔1〕透明被膜形成用涂布液,它是由基质形成成分和金属氧化物微粒和溶剂构成的透明被膜形成用涂布液,其特征是,含有作为均化剂的平均分子量在5,000~30,000的范围的丙烯酸-有机硅系树脂(ァクリルシリコン系樹脂),且均化剂的含量以固体成分计在0.001~7.2重量%的范围。
〔2〕如〔1〕的透明被膜形成用涂布液,所述基质形成成分的浓度以固体成分计在1~59.9重量%的范围,所述金属氧化物微粒的含量以固体成分计在0.025~48重量%的范围,总固体成分的浓度在5~60重量%的范围。
〔3〕如〔1〕或〔2〕的透明被膜形成用涂布液,所述金属氧化物微粒为由选自二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化锡、五氧化锑、氧化铟及它们的复合氧化物、含掺杂剂的所述金属氧化物及它们的复合氧化物的至少1种构成的微粒。
〔4〕如〔3〕的透明被膜形成用涂布液,所述金属氧化物微粒为二氧化硅系微粒。
〔5〕如〔1〕~〔4〕的透明被膜形成用涂布液,所述金属氧化物微粒用有机硅化合物进行了表面处理。
〔6〕如〔1〕~〔5〕的透明被膜形成用涂布液,所述金属氧化物微粒的平均粒径为5~300nm的范围。
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